南平硅钼棒加热双温区立式1700度气氛还原管式炉

高温度：1700℃

长期工作温度：1600～1650℃

温区结构：双温区独立 PID 可编程控温，两区单独设升温、保温、降温曲线

控温精度：单区 ±1℃，恒温区均匀性 ±3～5℃

升温速率：0～15℃/min，还原烧结推荐 2～6℃/min

测温元件：B 型铂铑热电偶，耐温 1800℃，适配 1700℃长期测温

控制模式：触摸屏 + 智能程序仪表，50 段以上工艺编程、曲线存储一键调用

加热元件：1800 型硅钼棒，立式环绕均布，双温区分区独立加热

保温材质：1800 级高纯氧化铝多晶陶瓷纤维炉膛轻质节能、抗热震、升降温快、无粉尘、不污染样品，适配 1700℃长期高温

炉体结构：立式整体炉体，双层风冷壳体，表面低温防烫

炉管材质：高纯刚玉氧化铝立式管（标配，耐 1700℃、耐还原气氛、耐腐蚀）

可选：特种耐温陶瓷管，支持长期氢气还原工况

常用规格：管径 Φ60/80/100/120mm，有效恒温区可按双温区定制长度

密封结构：上下两端水冷不锈钢法兰+ 耐温氟胶密封，高温防老化、不漏气

适用气氛：氢气、氮氢混合气、氮气、氩气 还原 / 保护两用

工作模式：真空置换→充还原气 / 保护气、动态连续通气、静态气氛保压

真空配置：可选机械泵 / 高真空机组，先抽真空排空气，杜绝高温氧化、防爆安全

气路控制：配精密流量计、单向阀、回火防止器，氢气专用防爆防护

整机按还原炉标准做密封、防爆、泄压安全设计

立式上装料 / 下出料结构，样品放置、坩埚取放便捷

双温区独立温控、独立过流保护

标配：超温报警、断偶保护、过流过载、漏电保护、泄压防爆、回火阻断、气氛压力保护

金属粉末、钨钼镍合金高温还原烧结

氮化硅、碳化硅、氧化锆等特种陶瓷气氛烧结

新能源粉体、磁性材料、催化剂高温还原与热处理

高校材料学院、科研院所、新材料企业高温还原实验研发

加热元件：为稳定达到1700℃的超高温，设备必须配备硅钼棒（MoSi₂）作为加热元件。硅钼棒在超高温下抗氧化性极强，发热效率高。在立式结构中，硅钼棒通常采用圆周密排布局，确保炉膛内温场极其均匀。

炉膛材质：标配99%高纯度刚玉管（Al₂O₃）作为炉膛内胆。刚玉管耐温可达1700℃，具有优异的抗热震性和耐化学腐蚀性，能确保在高温下不对样品造成污染。

立式结构设计：区别于传统的卧式炉，立式垂直安装设计大幅节省了实验室台面空间（占地面积通常≤0.4㎡）。炉管上下端操作空间独立，不仅方便样品的垂直装取，还能利用重力辅助样品的装卸与反应。

梯度温场调控：炉体内部设有两个完全独立的加热温区，每个温区拥有专属的加热元件和热电偶。可以实现两温区间高达300℃的梯度温差控制，也能同步设置为同一温度作为长单区炉使用，满足材料分段式烧结、区域熔炼或CVD工艺的特殊需求。

智能温控系统：搭载智能PID程序控温仪表（部分高端型号配备7英寸触摸屏），控温精度可达±1℃。支持30-50段可编程升温曲线，用户可自由设定复杂的升温、保温和降温速率（如0-20℃/min），实现全自动无人值守的复杂烧结工艺。

测温元件：在1700℃的超高温环境下，必须采用B型（铂铑30-铂铑6）热电偶，以确保测温的准确性与稳定性。

高纯还原气氛：设备配备专用的进气与排气接口，可通入氢气（H₂）、氮气（N₂）、氩气（Ar）等还原性或惰性气体。高端机型配备高精度质量流量控制器（MFC）和气体净化器，能精准控制气体流量和混合比例，将氧残留控制在极低水平（如＜1ppm），彻底杜绝样品高温氧化，实现完美的还原烧结。

真空密封系统：炉管上下端采用法兰式密封（如KF快速法兰或不锈钢法兰）搭配耐高温金属或氟橡胶复合密封圈。支持选配机械泵或分子泵机组，可将炉内真空度抽至10Pa甚至10⁻³Pa量级，实现“抽真空→气氛置换→气氛保护热处理”的一体化操作。

多重安全联锁：具备超温自动断电、断偶报警、过流保护、漏电保护等多重功能。针对立式和气氛还原特性，设备还配备了气体泄漏检测、炉内微正压精准控制以及紧急停止按钮，保障还原性气体（如氢气）使用时的安全。

快速降温系统：为了解决超高温炉降温慢的痛点，部分高端立式炉配备了风冷+水冷双模式快速降温系统。在保持气氛持续通入的情况下，可实现从1000℃降至200℃仅需30分钟左右，大幅提升高频次研发测试的效率。

高熔点材料还原烧结：难熔金属（如钨、钼）、稀土材料、金属氧化物粉末在氢气等还原气氛下的高温还原与致密化烧结。

半导体与薄膜制备：利用双温区特性，进行化学气相沉积（CVD）生长纳米材料、石墨烯、碳纳米管以及半导体材料的氧化、退火工艺。

先进陶瓷与晶体生长：氧化铝、氧化锆等高性能结构陶瓷的高温烧结，以及人工晶体在受控温度梯度下的定向生长。