C10200-OF 是美标 ASTM 标准OF 级无氧铜,无脱氧磷,氧含量极低;区分梯队:C10100 (OFHC 超高纯无氧铜) > C10200 (OF 标准无氧铜) > C11000 电解韧铜 (T1/T2) > T3 三号铜;日系对标 CU-PHC、YU1,低于 YU0 超高纯无氧铜;无任何锡、铁、镍、钛、铬、锆合金添加,仅靠冷轧调控软硬,无弹性、不耐磨,仅做导电导热基材、电子引线,不能做连接器弹片、轴承衬套。
Cu+Ag ≥99.99%氧含量 O ≤0.0010%,无磷脱氧;Bi、Pb、Fe、S、Zn、As 等有害杂质严格微量管控,无氢脆风险;不含合金强化元素,属于单一纯铜基材。
O 态软态(标准供货态,电子引线常用):抗拉强度 220~270MPa,断后延伸率≥40%,塑性,超薄轧制、深冲、精细折弯无开裂;半硬 / 硬态仅冷加工提强度,无弹性回弹,受力塑性变形。软态 HV 75~95,表面耐磨差,无法承受往复滑动摩擦。
导电率:101~103% IACS,高导电等级,仅略低于 C10100 OFHC;热导率 393~399W/(m・K),导热性能优异;软化温度约 208℃,长期 208℃以上持续高温易软化变形;无磷,高温氢气、真空焊接全程无氢脆,适配半导体封装高温制程。
密度 8.9g/cm³,无磁性;金属组织纯净,表面致密均匀,镀镍、镀金、镀银镀层附着力强、无针孔;高频信号传输损耗极低。
低氧无磷,适配电子引线封装高温制程无氧结构,芯片引线、分立器件引线高温封胶、回流焊不会出现内部裂纹、气泡,半导体封装行业通用引线基材。
塑性,可加工超薄超细引线可轧至 0.008mm 超薄铜带、拉制超细铜线,精密冲切微型引线引脚良率高,无毛刺、无断裂。
导电损耗低,电子元器件发热小集成电路、二极管、三极管引线导通电阻低,元器件工作温升更低。
镀层稳定性杂质含量低,电镀贵金属层均匀,长期存放不易起皮、变色,满足精密电子可靠性要求。
真空 / 焊接兼容性强可用于真空器件、氢气保护焊,不会产生氢脆开裂,适配高端光电、射频器件内部导电结构。
完全无弹性,不可制作开关、射频、快充弹性弹片受力无回弹,反复插拔会变形失效。
耐磨性能极差,不能用作轴套、滑动垫片、摩擦零件表面易刮花磨损。
高温稳定性不足208℃长期持续高温工况易形变,不适合车载机舱高温端子、多次高温功率连接器。
成本高于 C11000 (T1/T2) 普通韧铜普通低压母线、水暖管材、低端五金优先选用普通电解铜降本。
抗氧化弱于 CU-PHC 磷改良无氧铜无微量磷钝化膜,潮湿环境存放更易氧化发黑,需电镀 / 钝化防护。
半导体分立器件引线:二极管、三极管、MOS 管、整流桥引脚基材
IC 封装内部引线、小型光电器件、传感器细引线
精密仪器微型导电铜带、超薄接地铜箔、射频内部低损耗导体
真空设备、超声设备高纯导电电极、光伏汇流薄带
高端精密散热器、芯片水冷散热基板
超薄精密铜带、铜线、铜箔、铜板;标准供货 O 软态,另有 1/2H、H 硬态;支持精密分条、镜面脱脂、真空防潮包装,适配高速引线冲压设备。



C10200-OF
铜合金、铝青铜 、锡青铜 、高力黄铜、钨铜 ,氧化铝铜、无磁不锈钢、铝合金、镁合金、模具钢、高温合金、钨钢
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