德国 Allresist 紫外光刻胶 AR-P 3200 品质优良进口光刻胶
- 供应商
- 厦门芯磊贸易有限公司
- 认证
- 品牌
- 进口
- 产地
- 德国
- 型号
- 3200
- 手机号
- 13394069946
- 邮箱
- m18106081439@163.COM
- 联系人
- 石总
- 所在地
- 厦门市湖里区岐山路382号713室之五
- 更新时间
- 2025-12-11 10:57
高黏度：可形成几十微米甚至上百微米的厚胶膜
优异覆盖性：适合粗糙的Wafer表面涂胶
陡直边缘：图形剖面边缘陡直，适合LIGA或电镀工艺
保护性能：可很好地保护结构边缘
根据现有搜索结果，AR-P 3200的主要技术参数包括：
胶膜厚度：可达几十微米至上百微米
适用工艺：LIGA工艺、电镀工艺
表面适应性：特别适合粗糙的晶圆表面涂胶
图形质量：剖面边缘陡直，图形质量高
AR-P 3200主要应用于以下领域：
微机电系统(MEMS)制造：特别适合需要厚胶层的MEMS器件制造
LIGA工艺：用于高深宽比结构的制造
电镀工艺：作为电镀前的光刻保护层
特殊光学器件：用于需要厚胶膜的光学器件加工