半导体光刻胶 AZ系列/电子束胶 高透明 深硅刻蚀用光致抗蚀剂
- 供应商
- 厦门芯磊贸易有限公司
- 认证
- 品牌
- 进口
- 产地
- 美国
- 型号
- az
- 手机号
- 13394069946
- 邮箱
- m18106081439@163.COM
- 联系人
- 石总
- 所在地
- 厦门市湖里区岐山路382号713室之五
- 更新时间
- 2025-12-10 16:46
深硅刻蚀工艺对光致抗蚀剂有特殊要求：
需要具备高深宽比能力
侧壁垂直度要求高
需与深反应离子刻蚀(RIE)工艺兼容
通常采用PMMA等电子束胶或特殊配方的AZ系列产品
AZ系列光刻胶和电子束胶在半导体制造中具有广泛的应用：
集成电路制造：用于晶体管、电容器等元件的图案化
MEMS器件：制造加速度计、陀螺仪等传感器
3D集成电路：硅通孔(TSV)工艺
显示面板：OLED面板制造
光电子器件：光栅、透镜等微光学元件制造