SU-8 10系列光刻胶半导体材料电子专用材料进口光刻胶
- 供应商
- 厦门芯磊贸易有限公司
- 认证
- 品牌
- 进口
- 产地
- 美国
- 型号
- 10
- 手机号
- 13394069946
- 邮箱
- m18106081439@163.COM
- 联系人
- 石总
- 所在地
- 厦门市湖里区岐山路382号713室之五
- 更新时间
- 2025-12-10 17:09
| 厚度范围 | 1μm至300μm(单次旋涂)，层压可达1mm以上 |
| 深宽比 | 紫外光源下10:1，X射线光源下100:1 |
| 透光性 | 360nm以上透明度，相对较低的折射率 |
| 热稳定性 | 可耐受高温工艺条件 |
| 化学稳定性 | 抗多种化学腐蚀 |
匀胶工艺：控制胶厚在120-340μm，匀胶转速为700r/min(5s)，按400r/min加速度增加转速到2000r/min并保持15s，按500r/min的加速度降速至零
烘烤条件：恒温对流烘箱中进行前后烘
显影工艺：采用超声清洗设备改造的显影装置，振动频率33kHz，超声功率0-100W可调
SU-8 10系列光刻胶在半导体和微电子领域具有广泛的应用：
MEMS器件制造：用于制造加速度计、陀螺仪等传感器，特别适合高深宽比结构的加工
微流控芯片：用于快速模塑法加工PDMS微流控芯片，可制作复杂微通道结构
电镀模具：可直接作为绝缘体使用，制作高精度电镀模具
光学元件：用于制造光栅、透镜等微光学元件，利用其优异的光学特性
3D集成电路：适用于硅通孔(TSV)等先进封装工艺