湖北真空镀膜 半导体材料刻蚀工艺 真空镀膜平台

低压气相沉积真空镀膜加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，真空镀膜技术，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

汽车玻璃膜（又称：太阳膜）经历了四代真正意义上的生产工艺发展（涂布工艺、染色工艺、真空热蒸发工艺和磁控溅射工艺），如今早已成为中国3亿多车主为熟悉的汽车附属品之一。尽管如此，磁控溅射工艺作为玻璃膜的高工艺，大部分车主却并未有深刻的理解，这也导致车主们对于磁控溅射膜高昂的价格望而却步。原理：低压气体在高频电场中的发光现象。辉光球工作时，湖北真空镀膜，在球中央的电极周围形成一个类似为点电荷的场。当用手（人与大地相连）触及球时，球周围的电场、电势分布不再均匀对称，故辉光在手指周围处变得更为明亮，产生的弧线顺着手的触摸移动而游动扭曲，随手指移动起舞。

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 由于光伏级硅材料中不可避免的含有大量的杂质和缺陷，导致硅中少子寿命及扩散长度降低，从而导致电池的转换效率下降，h能与硅中的缺陷或杂质进行反应，从而将禁带中的能带转入价带或者导带。pecvd系统是一组利用平行板镀膜舟和高频等离子激i发器的系列发生器。在低压和升温的情况下，等离子发生器直接装在镀膜板中间发生反应。所用的活性气体为硅i烷sih4和氨nh3。这些气体作用于存储在硅片上的氮化硅。可以根据改变硅i烷对氨气的比率，来得到不同的折射指数。在沉积工艺中，伴有大量的氢原子和氢离子的产生，使得晶片的氢钝化性十分良好。在真空、480摄氏度的环境温度下，通过对石墨舟的导电，使硅片的表面镀上一层sixny。

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 随着技术的不断成熟，要求太阳电池的质量和外观也越来越高。目前，常用等离子增强化学气相沉积（pecvd）法沉积氮化硅，在晶硅太阳电池表面上一层小于100纳米的薄膜，氮化硅薄膜作为一种重要的薄膜材料，具有优良的光电性能、钝化性能和机械性能。它不仅是优良的太阳电池减反射膜，而且还有很好的表面和体钝化作用，能提高太阳电池的转换效率。在实际商业运用中，真空镀膜平台，用pecvd沉积氮化硅薄膜的技术已较为成熟，光伏太阳电池行业广泛使用板式pecvd和管式pecvd，但管式pecvd法制备的氮化硅薄膜色差问题难以解决，色差会使太阳电池的外观不良，必须重新晶硅太阳电池氮化硅膜产生色差的影响因素研究返工，使得生产成本高居不下。

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