南阳鑫宇炉业多温区PECVD镀膜机等离子试验机，化学沉积实验炉

四路质子混气管式pecvd

本炉子分为四大部分：开启式管式炉，等离子射频电源（50-500w），真空泵和阀门、质子流量计。

该炉在传统pecvd系统基础上实现了快速加热、冷却功能，该炉底部安装了一对滑轨，可手动滑动。采用双层壳体结构。该炉安装有行程开关，当炉盖打开时会自动切断电源，有效地保证使用者。加热和冷却速率可达100℃/min。为取得快速加热，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品位置。为获得快速冷却，可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10℃/s,是低成本快速热处理的理想炉。

四路质子混气管式pecvd系统为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的红心过来促进反应，因而这种cvd成为等离子体增强化学气相沉积（pecvd）,内炉膛采用国内先进的氧化炉陶瓷纤维可以提高设备加热效率，同事也可以延长仪器的使用寿命。

主要特点：虽环境温度在100-300℃，但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解，离解和离化，从而大大提高了反应物的活性。因此，这些具有反应祸心个点中性物质很容易被吸附到较低温度的基本表面上，发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜。

pecvd法是用500w交流等离子体与60*1200、多通道精密质量流量计和高真空系统气体组成。

实验机理：辉光放等离子体重，电子密度高，电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100

技术参数：

1. 额定温度：1100℃                   2.上限温度：1200℃

3.电压：220v                           4.加热元件：瑞典kanthal-a1电阻丝

5.热电偶：k型                         6.温控方式：智能化30段可编程控制

7.加热段：220mm+220mm                           

8.升温速率：≤30℃/min    推荐升温速率：≤15℃/min

9.射频电源：输出功率：50-500w可调±1％ 稳定性

               频率：13.56mhz±0.005％

               噪声：﹤50db

                冷却：空气冷却

                输入功率：ac220v，500w

10.真空泵和阀门：采用kf25系列波纹管和精密球阀连接

                       真空度可达10ˉ³pa

                       数字真空压力表可直观的显示数值

11.质量流量计：内部装有高精度数字显示质量流量训科准确的控制气体流量

                   气体流量范围为0-200sccm，误差：0.02％

                    一个气体搅拌罐上安装了液体释放阀的底部情况

                    不锈钢针阀安装在左侧可手动控制混合气体输入的数量

                     进气口：采用标准双卡套接头