
以下是为实验用硅碳棒加热真空管式炉设计的专业技术方案,突出多段控温精度与硅碳棒加热系统优势:
型号:VT-1400SC
核心设计亮点
◆ 多段精准控温
8区独立PID控制(轴向分段补偿加热)
温度梯度≤3℃/100mm(恒温区可定制长度)
支持10组程序配方存储(每组50段曲线)
◆ 硅碳棒优化系统
高密度硅碳棒阵列(表面碳化处理,寿命≥5000小时)
动态功率分配(根据热负荷自动调节输出)
关键性能参数
温度系统
工作范围:室温~1400℃(瞬时极限1450℃)
控温精度:±1℃(R型热电偶闭环控制)
升温速率:0.5~20℃/min(可编程非线性升温)
真空系统
极限真空:2×10⁻³Pa(分子泵+干泵机组)
管径兼容:Φ80~300mm(可选刚玉/石英/不锈钢管)
智能控制功能
► 温度-真空度协同曲线编程
► 异常波动自动补偿(电压波动±15%内稳定输出)
► 手机端实时监控(报警信息推送)
特殊结构设计
▸ 快拆式加热体模块(更换时间<15分钟)
▸ 双波纹管密封系统(适应管材热膨胀)
▸ 尾部气体净化装置(可选配)
安全防护体系
三重复合保护(超温/超压/过流独立电路)
硅碳棒断裂检测(阻抗实时监测)
应急气冷系统(突发断电保护样品)
典型应用场景
锂电材料烧结(正极/负极材料)
半导体晶圆退火
催化剂载体处理
碳纤维热处理
定制化选项
✓ 气氛切换舱(真空/惰性/还原性气氛快速转换)
✓ 样品旋转机构(10-60rpm可调)
✓ 集成质谱仪接口(反应气体分析)
(完全精准匹配:硅碳棒、多温区程控、1400℃、真空 + 气氛、管式、实验烧结,可直接做技术参数 / 采购标书)
高温度:1400℃
连续工作:≤1350℃
控温方式:多段独立控温(双温区 / 三温区)
控温精度:±1℃
恒温区均匀性:±2~3℃(多温区补偿,超长均匀区)
加热元件:等直径 / 粗端型 硅碳棒(SiC)
测温元件:N 或 S 型热电偶(每温区独立一支)
结构:双温区 / 三温区 独立加热 + 独立控温
控制器:多回路智能 PID,可同步 / 分别编程
功能:
梯度温度场(如 1200→1300→1400℃)
超长均匀温场(总恒温区可达 400~800mm)
分别设定升温速率、保温时间、降温曲线
适用:长样品烧结、CVD、管式扩散、梯度热处理
炉管:高纯氧化铝刚玉管(Al₂O₃) Φ40~Φ150mm 可选
炉膛:1500 级氧化铝多晶纤维,保温强、不掉渣
炉体:对开式(开启式),散热快、装样方便、保护炉管
极限真空:≤10Pa(-0.098MPa)
配置:旋片真空泵 + 数显真空计 + 电磁阀 + 止回阀
密封:304 不锈钢法兰 + 氟橡胶密封圈 + 真空密封
适用:N₂、Ar、O₂、NH₃、惰性 / 氧化 / 弱还原气氛
气路:1~3 路,精密流量计稳压稳流
结构:一端进气,一端出气,带安全阀、单向阀
7 英寸触摸屏 / 多台仪表独立控制
多段程序可编程(30~50 段 / 每区)
PID 自整定、超温保护、断偶保护、真空联锁
可配:RS485、电脑软件、温度曲线记录
长棒 / 长管材料高温烧结
催化剂煅烧、氧化物烧结、气氛真空热处理
连续管式实验、梯度温场、CVD 生长
高校、中科院、新材料实验室专用

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