安顺实验抽真空烧结1200度管式电阻炉

实验抽真空烧结1200℃管式电阻炉技术方案

1. 设备概述

专为实验室样品热处理设计的管式真空烧结系统，集成真空环境和1200℃高温处理能力，适用于粉体材料、薄膜镀层等小批量精密烧结实验。

2. 核心参数

| 项目 | 技术指标 | |----------------|--------------------------| | 高温度 | 1200℃（持续工作温度1100℃）| | 恒温精度 | ±1℃（@800℃） | | 炉管尺寸 | Φ60×1000mm（标配） | | 极限真空度 | ≤5×10⁻³Pa（分子泵机组） | | 加热区长度 | 300mm（均温段±2℃） | | 升温速率 | 0-20℃/min可调 |

3. 系统组成

1. 炉体结构：

2. 双层氧化铝炉管（内径Φ60mm）

3. 电阻丝螺旋加热（Kanthal A1材质）

4. 六段独立温区控制

5. 气冷/水冷快速降温模块

6. 真空系统：

7. 干式涡旋真空泵（可选分子泵扩展）

8. 真空阀门组（手动/电动可选）

9. 真空度数字显示（Pa/mbar双单位）

10. 气体控制系统：

11. 双路质量流量计（0-500SCCM）

12. 气体切换面板（N₂/Ar/H₂）

13. 尾气处理装置（可选配）

4. 特殊设计

可拆卸式炉管法兰（双向密封结构）

样品推舟系统（手动/电动可选）

多角度观察窗（耐高温石英玻璃）

真空互联接口（KF25标准）

5. 智能控制

7英寸触摸屏控制器

30段程序设定存储

实时真空-温度曲线显示

USB数据导出功能

手机远程监控（选配）

6. 安全防护

超温自动断电保护

真空连锁保护（低真空禁加热）

冷却水压监测报警

应急泄压阀（手动触发）

7. 典型应用

纳米粉体材料烧结

催化剂载体处理

光伏材料退火

半导体薄膜热处理

高校科研实验教学

8. 可选配置

扩大炉管尺寸（Φ80/Φ100mm）

红外测温系统（非接触式）

旋转样品支架

真空手套箱对接法兰

高温摄像记录系统

实验用抽真空烧结 1200℃管式电阻炉（标准配置）

一、基本参数

高温度：1200℃

长期工作温度：≤1150℃

控温方式：PID 智能程控，30 段可编程

控温精度：±1℃

加热元件：电阻丝（铁铬铝或镍铬）

炉膛管材质：刚玉管（氧化铝陶瓷管）Al₂O₃≥95%

密封方式：不锈钢法兰 + 氟橡胶密封圈，可抽真空

真空度：标配机械泵可达 ≤-0.095MPa（低真空）

气氛类型：N₂、Ar、惰性保护气氛

炉型：卧式开启式（开合式）管式炉常用，方便装取样品

二、常用管径规格（实验室主流）

Φ50×L1000mm（常用小型）

Φ60×L1000mm

Φ80×L1000mm

Φ100×L1000mm

加热温区一般为单温区，也可做双温区、三温区。

三、结构组成

1. 炉体双层壳体风冷，外壳温度低，安全美观

2. 加热炉衬高纯陶瓷纤维保温，升温快、节能

3. 刚玉炉管耐高温、耐腐蚀、洁净，适合粉末、薄膜、催化剂烧结

4. 真空密封法兰两端不锈钢快开法兰，带进气、出气、真空接口

5. 真空系统旋片真空泵、真空阀、真空表

6. 气氛气路减压阀、稳压阀、流量计（浮子或 MFC）

7. 控制系统数显仪表 / 触摸屏，程序升温、保温、降温

四、典型工艺用途

粉末材料气氛保护烧结

催化剂焙烧、还原、活化

碳材料、石墨烯、MOF 衍生材料热处理

金属箔、丝材退火

化学气相沉积 CVD 前驱加热（低配版）

真空除气、真空干燥

五、标准工艺流程（真空 + 氮气保护烧结）

1. 装样→推入炉管中央温区

2. 锁紧两端法兰

3. 抽真空至 - 0.095MPa

4. 充氮气，反复置换 2～3 次

5. 设定程序升温烧结

6. 保温过程通微量气氛保持微正压

7. 程序降温至 200℃以下

8. 放气→开法兰→取样品

六、1200℃管式炉 vs 箱式气氛炉（你前面问的）

管式炉：温场更均匀、气氛利用率高、密封好、适合小样品、实验重复性高

箱式炉：装料量大、适合块状 / 坩埚批量烧结

如果你是做精密材料实验、催化剂、碳材料、薄膜，1200℃管式炉是更优选择。