7. 程序
7.1 如果不在测试材料之间进行性能比较,建议将对照材料与实验材料同时暴露,以测定相对性能。所有相关方必须就所使用的对照材料达成一致。
7.1.1 报告中应附上所使用任何对照样品的标识。
7.2 将测试样品安装在样品暴露区域内,测试表面面向灯管。当测试样品未完全填满暴露区域时,用空白金属板填充空位,以维持箱内的测试条件。
7.3 将样品限制在辐照度至少为暴露区域中心测量值 90%的暴露区域内。在辐照度为Zui大辐照度 70% 至 90% 的区域,遵循规范 G152中概述的程序之一,以确保辐射暴露量相等或补偿辐射暴露量的差异。辐照度均匀性应根据规范 G151 确定。
7.4 规范 G152列出了用于非金属材料过滤式明火碳弧暴露的几种暴露循环。所使用的具体暴露循环应经所有相关方共同商定。经相关方协商一致,可替换为额外的湿润间隔和方法,包括喷雾、冷凝或浸泡,或这些方法的组合。
注5——喷雾、冷凝和浸泡是不同类型的水分暴露,通常会产生不同的结果。
7.4.1 根据历史惯例,以下暴露循环通常用于塑料。
注6——除非另有规定,应操作设备以维持下述参数在规定运行波动范围内。如果设备稳定后实际运行条件与机器设定值不符,应停止测试,并在继续前纠正不符的原因。
注 7——设定点和运行波动可以彼此独立列出,也可以以下列格式列出:设定点 ±运行波动。设定点是用户在编程时针对操作控制点所用传感器的目标条件。运行波动是指在平衡运行期间,相对于校准控制传感器读数指示的控制点指示设定值的偏差,不包括测量不确定度。在操作控制点,平衡时的运行波动不得超过所列数值。因此,当标准要求特定的设定点时,用户需准确编程该数值。与设定点一起规定的运行波动并不意味着允许用户编程比规定设定点更高或更低的设定点。
7.4.1.1 连续光照,平衡状态下非隔热黑板温度控制在 63±3∘63±3∘C(145±9∘145±9∘F),包括以下交替间隔:
7.4.1.2 102 分钟仅光照,随后 18分钟光照同时向测试样品喷水。
7.4.1.3 除非在允许控制相对湿度的设备中另有规定,在仅光照间隔期间,将平衡相对湿度控制在 50±550±5 %。
7.4.1.4 除非在允许控制空气室温度的设备中另有规定,将室温度控制在 44±2∘44±2∘C(111±4∘111±4∘F)。
注 8——平衡黑板温度是在无喷水期间获得的。对于少于 30分钟的光照间隔,Zui大黑板温度可能无法达到平衡。
注 9——7.4.1 中描述的测试循环也称为"102-18循环",可能不足以充分模拟户外暴露的影响。
7.5.1 用于样品喷雾的水的纯度非常重要。若不进行适当的处理以去除阳离子、阴离子和有机物(特别是二氧化硅),暴露的样板可能会出现斑点或污渍,而这种情况在户外暴露中可能不会发生。
7.5.2 遵循规范 G151中关于水质纯度的要求。
7.5.3 如果在设备中暴露后发现样品有沉积物或污渍,必须检查水质纯度,以确定其是否符合7.5.2的要求。在某些情况下,暴露的样品可能会被用于样品喷雾的纯化水中滋生的细菌沉积物污染。如果检测到细菌污染,必须在恢复暴露之前,使用氯溶液冲洗整个用于样品喷水的系统,并彻底漂洗。
7.5.4 用于样品喷雾的水的典型温度为 21±5∘C21±5∘C (70±9∘70±9∘F)。但是,如果环境温度较低且未使用储罐储存纯化水,则用于样品喷雾的水温可能会低于给定的典型范围。
7.5.5 当满足水质纯度要求,但各方对污渍或沉积物引起问题的程度存在分歧时,应在至少另一家能满足7.5 节所述水质要求的实验室进行仲裁测试。
7.5.6 对于具有湿度控制的设备,建议在产生水蒸气以控制湿度时使用去离子水。
7.6 一些耐光性测试是在完全不弄湿样品的情况下进行的。当需要此类测试时,省略向样品喷水的阶段。
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