高分辨率性能：
在多晶硅上实现高密度线条和空间
在氮化钛上实现高密度、高深宽比的线条和空间
在氧化硅上刻蚀密集孔
实现高深宽比的孔结构
工艺兼容性：
可与底层胶LOR/PMGI-S搭配使用
适用于lift-off工艺
灵敏度高，适合精密图案制作
应用材料：
多晶硅
氮化钛
氧化硅等多种半导体材料
半导体制造中的前端工艺(0.35µm)
后端封装工艺
MEMS器件制造
精密光学元件加工
微机电系统(MEMS)制造
显影液、漂洗液、光刻胶、聚酰亚胺、冰箱储存、化学试剂、国产试剂、半导体材料、电子专用材料、表面活性剂美国PTI粉尘，日本JIS粉尘德国DMT,KSL 美国AATCC,英国SDC,JAMESH 测试用品HANOVIA 灯管6824F446 UV灯
主营业务：显影液、漂洗液、光刻胶、聚酰亚胺、冰箱储存、化学试剂、国产试剂、半导体材料、电子专用材料、锐材表面活性剂 美国PTI粉尘，日本JIS粉尘，德国DMT粉尘，美国AATCC测试用，英国SDC,JAMESH,日本测试用品，理美国PTI公司杂质颗粒尺寸分析试验、检测设备及各种试验粉尘。代理德国DMT公司的符合IEC 60312标准的试验粉尘。 同时，公司还代理进口日本JIS标准试验粉尘。 满足国内汽车零部件、纤，电子等行业企业的实验...
