PMMA 950系列是广泛应用于电子束光刻工艺的高性能光刻胶，具有高分辨率、高灵敏度等特性，在微电子制造和纳米技术领域发挥着重要作用。
PMMA 950系列属于高分子量聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)光刻胶，主要特性包括：
溶剂类型：分为苯甲醚(A)和氯苯(C)两种溶剂体系
分子量：约950K(重均分子量约73×10⁴Da)
分辨率：<0.1μm，适用于高精度应用
适用工艺：电子束光刻和X射线曝光
储存条件：建议10-27℃低温保存
PMMA 950系列相比495系列具有更高的分子量和粘度，特别适合需要更高分辨率的应用场景
PMMA 950系列在微电子制造和纳米技术中有广泛用途：
电子束光刻：用于制造高精度微细结构，分辨率可达纳米级
多层T-Gate剥离工艺：在半导体器件制造中应用广泛
晶圆减薄工艺：作为保护层和临时粘合剂使用
科研领域：用于基础科学研究中的高精度图案转移
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