加热速率
0-20℃/min,建议5-10℃/min

真空热处理1200度箱式气氛电阻炉真空热处理1200度箱式气氛电阻炉的核心优势在于其精准的温控系统与稳定的气氛环境。当炉温攀升至1200℃时,内置的钼丝加热元件会以均匀的热辐射覆盖整个工作室,而双层水冷炉壳结构则有效隔绝了高温对外部环境的影响。此时,炉内通入的高纯度氩气或氮气形成保护屏障,使工件在无氧状态下完成固溶、退火或钎焊等工艺,避免了氧化和脱碳现象。
为适应不同材料的处理需求,该设备配备了智能化人机界面。操作者可通过触摸屏设定多段升温曲线,系统会自动调节加热速率并在临界温度点触发保温计时。例如,处理航空合金时,系统会以200℃/h的速率升至800℃后转为50℃/h缓升,确保晶粒结构的均匀转变。炉门采用的液压密封装置在关闭瞬间能实现10^-3Pa级真空度,门框处的铜密封圈在高温下仍保持弹性,彻底杜绝了气氛泄漏风险。
这种设备结合真空环境与可控气氛,搭配电阻加热方式实现1200℃稳定热处理,能避免材料氧化脱碳,适配多种材料的烧结、退火等工艺,广泛应用于科研院所的新材料研发及工矿企业的小批量精密加工,以下是其核心配置、优势及代表性产品介绍:
核心结构与性能优势
类别具体内容
| 加热与炉膛设计 | 加热元件分两类,一类是硅碳棒,具备升温快、高温稳定性强的特点,垂直安装在炉膛两侧;另一类是镍铬合金电阻丝,适配精准控温场景。炉膛多采用真空成型高纯氧化铝聚轻材料,炉口、炉底等易磨损部位会加装轻质空心球氧化铝板,既能承受1200℃高温,又能减少蓄热和热量损耗,节能效果比老式电炉提升 80% 以上。 |
| 真空与气氛系统 | 真空系统由真空泵、真空管道和阀门组成,冷态抽真空度可达 -0.1MPa,部分高配型号可选扩散泵、分子泵,能实现 10⁻² -10⁻⁴Pa 的高真空度。气氛方面可稳定通入氮气、氩气、二氧化碳、氢气等,搭配玻璃转子流量计或质量流量计精准控量,通过 “抽真空 -充气氛” 多循环操作,可将炉内氧含量控制在 5ppm 以下,满足无氧处理需求。 |
| 智能控温与操作 | 普遍搭载集成化电路 PID 控制系统,控温精度达 ±1℃,炉温均匀性可控制在 ±2℃左右。支持多条升温曲线预设,升温速率调节范围从1℃/h 到40℃/min,适配不同材料工艺。部分型号可定制触摸屏或计算机通讯接口,能实现升温曲线设定、历史数据存储与追溯,甚至远程监控设备运行状态。 |
| 安全与冷却配置 | 炉体多为双层风冷或水冷结构,外壳温度可控制在 45 -50℃以内,避免操作烫伤。安全防护上涵盖超温报警、热电偶断偶报警、缺相超流保护等功能,部分设备带炉门气压联锁装置,密封失效时立即切断加热电源。针对氢气等易燃易爆气氛,还可选配防爆排气阀,进一步提升操作安全性。 |
值得注意的是,炉膛内壁的氧化铝纤维模块不仅具有优异的隔热性能,其多孔结构还能吸附热处理过程中挥发的微量杂质。当处理钛合金等活性金属时,系统会启动辅助的分子泵组,将真空度提升至10^-5Pa量级,此时残余气体分析仪会实时监测CO、H2O等成分含量,确保工艺纯净度。完成热处理的工件会通过快冷装置在惰性气流中速冷至300℃以下,这个过程中温度传感器与电磁阀的联动控制,使冷却速率始终保持在预设的±5℃/s误差范围内。

高温箱式气氛炉,气氛烧结炉,流量可控箱式气氛炉,气体流量控制箱式气氛炉,真空气氛陶瓷烧结炉