射频等离子体去胶机—PVA TePla

pva tepla 射频等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，均匀性好。

 

型号:ion 40 /m4l

 

典型应用：

去除光刻胶 photo-resist stripping

去除残胶 wafer descum

晶圆和衬底的清洁 wafer and substrate cleaning

 

氮化硅、聚酰亚胺等的刻蚀 etching of silicon nitride, pi, etc.

刻蚀钝化层 etching of passivation layers

 

过滤器和薄膜的清洁 cleaning of filters and membranes

 

规格参数：

13.56mhz风冷射频电源（0～600w可调，可选0～300w/0~100w），

铝制或石英腔体，

可抽卸平行电极板，均匀性好

兼容8英寸及以下晶圆

多6路气体，mfc控制

pc工控机控制，运行数据自动存储

触控屏图形化用户界面，运行状态图形化实时显示

可选配法拉第桶

可选压力控制系统

可选温控装置

 

外形尺寸：775×723×781 mm

 

认证：

ce 认证
en 61010
en 61326
semi e95

iso 9001
cispr 55011