ASTM D7869-17用于交通涂层的增强光与水暴露的氙弧暴露测试

ASTMD7869-17用于交通涂层的增强光与水暴露的氙弧暴露测试

1. 测试步骤

9.1试样制备、调节和处理请参考实践规范G147。所有试样在测试前必须清洁，并无指纹或其他表面污染物。根据需要制备适合所用试样安装夹具的暴露试样（如有）。遵循制造商关于试样尺寸和安装的指南。

9.1.1如合同双方约定，必要时密封试样的所有切割边缘。例如：(a) 金属板切割边缘产生的锈蚀和腐蚀产物可能污染试样；(b)塑料基材切割边缘的副产物可能渗出并污染试样；以及(c) 其他板可能完全不需要边缘密封。

注5：自干底漆、塑料屏障胶带和硅酮密封剂通常被发现适用于边缘密封。

9.2用惰性试样（例如阳极氧化铝板）填充氙弧光和水设备暴露区域中所有未使用的试样位置，以维持所需的气流。

注6：请参考制造商说明以正确操作设备。

9.3编程设置氙弧光和水设备运行表1所示的暴露循环，并遵循制造商的说明。测试持续时间（以循环数、小时数或辐射剂量计）应由合同双方商定。

9.4为改善暴露均匀性，试样应至少每两周重新定位一次。关于旋转架和平板阵列式氙弧光和水设备中试样重新定位的更具体指导和图示，请参见实践规范G151附录X2。

9.4.1旋转架设备中的试样应重新定位到紧邻其上的位置；顶部位置的试样应重新定位到底部位置。

9.4.2平板阵列设备中的试样应重新定位到紧邻其左的位置；Zui左侧位置的试样应重新定位到Zui右侧位置，如适用，还应进行前后翻转重新定位。

注7：9.4.1和9.4.2中要求的试样重新定位是为了补偿测试箱内光、水、相对湿度和温度的变化。

9.5测试中断仅允许在无喷水的步骤中进行重新定位和试样评估。

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