PVD纯离子镀膜设备:镀制高致密类金刚石涂层
- 供应商
- 安徽纯源镀膜科技有限公司
- 认证
- 膜层厚度
- 纳米、微米膜层系列
- 镀膜温度
- <150℃
- 膜层性能
- 超硬、耐腐蚀、防刮花、防粘黏、强附着力
- 联系电话
- 0551-63652293
- 手机号
- 18356509334
- 联系人
- 舒平
- 所在地
- 合肥市高新区大别山路1599号
- 更新时间
- 2025-02-28 09:00
pis624/pis622纯离子镀膜设备主要是集纯离子镀膜技术(pic)、高能离子束清洗技术(ionbeam)和磁控溅射技术(sputter)三种技术融合于一体,其独有的纯离子镀膜源专利技术!具有电磁过滤系统和高频电磁扫描系统两大创新点,电磁过滤系统可以过滤掉中性粒子、大颗粒离子团等杂质,提高了离化率,使膜层更加致密,硬度更高,耐磨性和耐腐蚀性也更优异。
可以镀制厚度范围从几百纳米到二十多微米的超级类金刚石ta-c膜层,根据各行业产品的要求,通常典型的碳膜层厚度系列有:1-2um(用于各行业的常规薄膜),5-7um(用于汽车发动机核心零部件镀膜),20-25um(用于大载荷、长寿命要求零部件)。还可以利用纯离子技术镀制各种纯金属及金属化合物膜层如:cr、cu、a1、ag、pt、tin、tic、crn,wc等。
根据市场需求公司研制出多款产品,如增配辅助阳极、增加磁过滤系统、选配矩形平面靶或圆柱旋转靶等功能,结合溅射工艺进行镀膜及成膜,是制备超硬,耐磨,自润滑,高结合力的高质量膜层的有利帮手。设备采用可编程控制器(plc)+触摸屏(hmi)组合方式,可实现全自动化控制。