PVD真空镀膜主要应用领域

气相沉积技术是制备薄膜的常用技术之一，是将成膜物质气化输运到基体上沉积为固相薄膜。气相沉积一般分为物理气相沉积（pvd）和化学气相沉积（cvd）。

物理气相沉积（pvd）：·一般来说，物理气相沉积是把固态或液态成膜材料通过某种物理方式（高温蒸发、溅射、等离子体、离子束、激光束、电弧等）产生气相原子、分子、离子（气态、等离子态），再经过输运在基体表面沉积或与其他活性气体反应形成反应产物在基体上沉积为固相薄膜的过程。

· 优点：1.镀膜材料来源广泛；2.沉积粒子能量可调；3.沉积温度低；4.可制备多种类型膜层；5.无污染，保护环境。

· 种类：1.真空蒸发镀膜；2.真空溅射镀膜；3.真空离子镀膜。

pvd真空镀膜主要应用领域：1.装饰膜层；2.耐磨硬膜；3.减摩润滑膜；4.光学膜；5.导电膜等。