韩国放宽极紫外光刻机审批，进口周期缩短至9天

韩国政府近日宣布，将对用于关键半导体工艺的极紫外（EUV）光刻设备审批流程进行重大简化，旨在显著缩短三星电子（Samsung Electronics）和SK海力士（SK hynix）等主要芯片制造商在扩产过程中的检查时间。这一举措被视为韩国强化高科技产业竞争力、加速先进半导体技术部署的关键一步。

监管分类调整：从“高压设施”到“指定设备”

韩国产业通商资源部表示，关于《高压气体安全法》执行令的修订案已在周二举行的内阁会议上获得批准，预计将在下周正式公布后立即生效。此次修订的核心在于重新定义半导体制造工具的安全监管类别。

根据新规，符合全球安全标准的半导体制造设备（包括EUV光刻系统）将被归类为“指定设备”，而非受更严格监管的“一般高压气体制造设施”。长期以来，由于EUV系统内部包含高压气体管道和组件，传统上被划分为高压气体生产设施。这种分类导致每次设备安装时都需要进行技术审查和检查，不仅造成了时间延误，还增加了芯片制造商的成本。

审批提速与成本双降

在变更后的框架下，EUV设备进口的检查和批准程序预计将从34天缩短至Zui少9天，每个系统的延迟时间可减少多达25天。这一效率提升对于正处于产能扩张关键期的韩国半导体巨头而言至关重要。

除了时间成本的节约，经济负担也将显著减轻。该部门预计，修订后的框架将使海外认证检查机构收取的压力和泄漏测试费用每台设备降低约50亿韩元（约合33万美元）。产业通商资源部表示，这一系列措施旨在帮助国内芯片制造商更快地部署先进制造设备，从而巩固其在半导体技术领域的领先地位。

产业部长金正焕指出：“Zui新的修订是监管改革的旗舰案例，旨在增强安全性的同时提升高科技产业的竞争力。我们将继续通过建立符合全球标准的理性安全管理体制，积极支持先进领域的投资。”

平衡安全与效率：三年一次全面审计

为确保安全监管水平不降低，韩国政府制定了严格的后续监督机制。虽然审批流程简化，但EUV设备仍需每三年进行一次工厂审计和综合工艺检查。通过这种方式，当局可以验证制造商的生产流程和质量控制能力，确保其安全性等同于之前的严格分类标准。

据悉，该部门在与半导体行业进行系列磋商，并审查全球安全标准与韩国监管框架的契合度后，制定了此次修订案。这反映了韩国政府在追求产业效率与安全合规之间寻求平衡的努力。

配套改革：拓展环保清洁技术应用

除了放宽EUV监管外，政府还修订了其他相关执行规则，以支持更广泛的半导体制造创新。例如，新规引入了针对环保型液化二氧化碳清洁系统的定制检查标准。此类系统使用二氧化碳替代水和洗涤剂进行清洗，此次修订为其在韩国的首次商业化铺平了道路。

此外，针对管理低风险高压气体设施（包括商业液化二氧化碳清洁系统和气体储存设施）的安全管理人员，其资格要求也相应放宽。这些配套措施共同构成了韩国半导体产业支持政策的一部分，旨在通过优化监管环境，吸引全球投资并加速技术落地。