玻璃板 苏州制版

光罩的制作过程

1.制作石英基板。空白基板通常为6英寸见方，厚度为0.25英寸。它由纯熔融石英制成，通常简称为石英。基板表面必须非常平坦且无缺陷。

2. 沉积吸收层。在基板上是薄的吸收层，可以阻挡来自光刻机的曝光。

3. 沉积光刻胶层。在吸收层的顶部是一层薄的光刻胶，暴露在光罩写入机（mask writer）之下。

4. 写入。由光罩写入机完成，使用电子束曝光光刻胶，将芯片设计的图案数据呈现在光刻胶上。

5. 烘烤。烘烤曝光的光刻胶，要求在光罩上的每个点都温度均匀。

6. 显影。使用显影剂使光刻胶的图像显影，漂洗并干燥而不留下任何残留物。因为光刻胶图案在蚀刻工艺期间用作光罩，所以该显影步骤是关键的，因为显影中的任何不均匀性将导致终图案尺寸的不均匀性。

7. 蚀刻。然后将显影的光罩放到到蚀刻机中，蚀刻机使用等离子体地蚀刻掉由写入和显影步骤带来的吸收剂材料。

8. 剥离和清洁。将蚀刻好的光罩装入清洁机器中，清洁机器使用干等离子体或湿化学法剥离光刻胶。

9. 测量。测量关键尺寸（cd）和图案精度，以确保它们符合客户规格。

10. 检查。为了验证图案精度，将光掩模加载到inspection机台中。如果发现缺陷，则对它们进行分类和必要的修复。

掩膜板的定义:一般用在芯片制造上，也称光罩，曝光过程中的原始图形的载体，通过曝光过程，这些图形的信息将被传递到芯片上。光刻产品的遮挡，防止光的衍射.

掩膜板的产品特点：按客户图低制作，产品厚度0.10mm，(图中所有孔精度要求小于±5μm，所有孔的位置精度为小于±10μm）。

我国主要需求量主要在北京、上海、长三角、珠三角等发达地区。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

理想的刻蚀工艺必须具有以下特点

①   各向异性刻蚀，即只有垂直刻蚀，没有横向钻蚀。这样才能保证地在被刻蚀的薄膜上出与抗蚀剂上完全一致的几何图形；

②   良好的刻蚀选择性，即对作为掩模的抗蚀剂和处于其下的另一层薄膜或材料的刻蚀速率都比被刻蚀薄膜的刻蚀速率小得多，以保证刻蚀过程中抗蚀剂掩蔽的有效性，不致发生因为过刻蚀而损坏薄膜下面的其他材料；

③    加工批量大，控制容易，玻璃板，成本低，对环境污染少，适用于工业生产。

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