氧化镁（MgO）晶体衬底基片 合肥合瑞达

氧化镁（mgo）是极1好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等，由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 

主要性能参数 尺寸：10x3，10x5，氧化镁（mgo）晶体多少钱，10x10，15x15，20x15，20x20，dia2”x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15mm；厚度：0.5mm，1.0mm；抛光：单面或双面；晶向：<001>±0.5o；晶面定向精度:±0.5°；边缘定向精度:2°（特殊要求可达1°以内）；斜切晶片：可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜（倾斜角1°－45°）的晶片；ra:≤5a（5μm×5μm）。

氧化镁单晶在许多高技术领域的研究和生产中有着独特的优势，其中，大尺寸氧化镁单晶体以及以此为基础做成的高温超导基片及双面膜为参与国际高科技竟争的关键产品。氧化镁的熔点在2800°c以上，沸点为3600°c，所以要想得到大尺寸、高纯度的氧化镁单晶，氧化镁（mgo）晶体单晶厂家，对原料的选择和控制要求非常严格。氧化镁单晶基片是高频微波器件高温超导薄膜zui常选用的主要衬底材料之一，也是当前可实现产业化的重要的高温超导薄膜基片。

氧化镁(mgo)一般情况下是白色粉末，武汉氧化镁（mgo）晶体，但是氧化镁晶体，离子晶体，氧是典型的非金属，镁是典型的金属，氧化镁（mgo）晶体衬底基片，所以形成的氧化镁是离子晶体。氧化镁单晶广泛用于航空、航天、国1防通讯、医1疗器械、光学仪器、等离子电视机保护膜蒸发源等领域。对天然菱镁矿的加热得到氧化镁（mgo），再将其加入到电弧炉中，加热到2800°c以上，会生长出氧化镁（mgo）晶体。

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