高纯硅化锆 半导体薄膜生产用坩埚材料二硅化锆ZrSi2

产品特点

二硅化锆ZrSi2，硅化锆属于硅化物，灰色正方结晶粉末。熔点1620℃，密度4.88CAS号:12039-90-6，用作精细陶瓷原料粉，用于生产半导体薄膜生产用坩埚。

产品制备

1.以金属锆和硅粉为原料，将金属锆粉碎，再与硅粉充分混合，将混合料放入石墨炉内，加热至900～1000℃进行预反应，然后通入氢气，再升温至1200℃左右进行反应，制得硅化锆。
2.采用直接法，以金属锆和硅粉为原料制备硅化锆，反应式如下：首先将金属锆粉碎，再与硅粉充分混合，将混合料放入石墨炉内，加热至900～1000℃进行预反应，然后通入氢气，再升温至1200℃左右进行均化反应，即制得硅化锆。

包装储存
本品为充惰气塑料袋包装，密封保存于干燥、阴凉的环境中，不宜暴露空气中，防受潮发生氧化团聚，影响分散性能和使用效果；包装数量可以根据客户要求提供，分装。