气相沉积设备厂商 气相沉积设备 东莞拉奇纳米
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- 东莞拉奇纳米科技有限公司
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- 业务副理
- 唐锦仪
- 所在地
- 广东省东莞市塘厦镇诸佛岭村民业街33号1栋3楼
- 更新时间
- 2020-01-21 14:50
.真空蒸镀
真空蒸镀是真空条件下在1.33x10-3至1.33x10-4pa的压力下,用电子束等热源加热沉积材料使之蒸发,蒸发的原子或分子直接在注塑加工件表面形成沉积层。但对于难熔的金属碳化物和氮化物进行直接蒸发是有困难的,并且有使化合物分解的倾向。为此,开发了引入化学过程的反应蒸镀,例如,气相沉积设备价格,用电子枪蒸发钛金属,并将少量和等反应气体导入蒸发空间,使钛原子和反应气体原子在工件表面进行反应,沉积tic涂层。
真空蒸镀多用于透镜和反射镜等光学元件、各种电子元件、塑料注塑加工制品等的表面镀膜,在表面硬化方面的应用不太多。
(1)化学气相沉积(cvd)反应温度一般在900~1200℃,中温cvd例如mocvd(金属有机化合物化学气相沉积),反应温度在500~800℃。若通过气相反应的能量,还可把反应温度降低。
“辅助”cvd的工艺较多,主要有:
①电子辅助cvd(eacvd)(也称为电子束辅助cvd,气相沉积设备厂商,电子增强cvd,或电子束诱导cvd),涂层的形成在电子作用下得到改进。
② 激光辅助cvd(lacvd),也称为激光cvd或光子辅助cvd,涂层的形成在激光辐照作用下得到改进。
③ 热丝cvd,也称为热cvd,一根热丝放在被镀物件附近进行沉积。
④金属有机化合物cvd(mocvd),小型气相沉积设备,是在一种有机金属化合物气氛(这种气氛在室温时是稳定的,但在高温下分解)中进行沉积。
离化pvd技术通过将成膜材料高度电离化形成膜材料离子,从而增加膜材料离子的沉积动能,并使之在高化学活性状态下沉积薄膜的技术,包括离子镀、离子束沉积和离子束辅助沉积三类。
离化pvd过程大多是蒸发/溅射(气相物质激发)与等离子体离化过程(赋能、)的交叉结合。
蒸发镀膜是依靠源材料的晶格振动能克服逸出功,气相沉积设备,从而形成沉积粒子的热发射,即:外加能量(电阻/电子束/激光/电弧/射频)赋予材料较高的晶格振动能,使其克服固有的逸出功逸出粒子。而溅射是依靠高能离子输入动能,借助源材料中粒子间的弹性碰撞,致使更高动能粒子逸出。离化pvd是以其它手段激发沉积物质粒子,然后使之与高度电离的等离子体交互作用(类似pecvd),促使沉积粒子离化,使之既可被电场加速而获得更高动能,同时在低温状态下具有高化学活性。
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