抛光液也就是工业硅溶胶。硅溶胶为纳米级的二氧化硅颗粒在水中或溶剂中的分撒液。由于硅溶胶中的sio2含有大量的水及羟基，故硅溶胶也可以表述为sio2.nh2o。制备硅溶胶有不同的途径。蕞常用的方法有离子交换法、硅粉一步水解法、硅脘水解法等。这些方法所用的原料不同，所走的工艺路线不同，所产生的终产品的性能与生产成本也不同。硅溶胶的离子交换工艺为美国的nalco公司在上世纪40年代研发，后由美国杜邦公司等在五，六十年代完善，不锈钢抛光蜡，目前为成熟也是为广泛使用的工艺。该工艺对水玻璃、离子交换树脂等材料以及操作工艺有一定的要求，而这些正是国产品的弱势。相对来说，硅粉一步水解法的工艺比较简单，目前在国内被广泛使用。然而，用该法制备的硅溶胶通常颗粒大小在10-20纳米左右，颗粒间的界面不清晰，抛光蜡，形貌为非球形且无法控制，颗粒间的界面不清晰，故通常只是被大量使用在铸造等行业，而在精密抛光，抛光蜡批发，催化剂等许多要求更高的领域则无大建树。
1.机械抛光使用抛光蜡：
机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，镜面抛光蜡，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用定制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动，配合抛光蜡使用。
2.化学抛光使用抛光蜡：
化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备。
1.流体抛光使用抛光蜡：
流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒；中刷工件表面达到抛光的目的。常用方法有：磨科喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨是由液压驱动，使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物(聚合物状物质)并掺上磨料制咸，磨料可采用碳化硅粉末。
2.磁研磨抛光使用抛光蜡：
磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷，对工件磨削加工。这种方法加工效率高，质量好，加工条件容易控制，工作条件好。采用合适的磨料，表面粗糙度可以达到ra0.1μm。而使用抛光、手动或自动抛光、能使表面质量又达到不同的要求。
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