光刻板业内又称光掩模版、掩膜版，光罩，英文名称 mask 或photomask），材质：石英玻璃、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃或者苏打玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶。（感光胶又称光致抗蚀剂，是利用光化学反应进行图形转移的媒体性精细化学品，根据不同的用途性能等有多种型号，目前光掩模版大多数都是用的正性胶。光刻正性胶在经激光照射后，曝i光区的邻重氮萘醌化合物发生光解反应重排成羧酸，使胶膜加速溶于稀碱水溶液。）把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝i光在感光胶上，制版，被曝i光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝i光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，其生产加工工序为：曝i光，显影，去感光胶，后应用于光蚀刻。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻（英语：photolithography）是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝i光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、sos中的蓝宝石。
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reticle也称为mask，翻译做光掩模板或者光罩，曝i光过程中的原始图形的载体，通过曝i光过程，这些图形的信息将被传递到芯片上。制造芯片时用.我们公司做的掩膜版，一般是根据客户的要求做的，客户提供图纸我们加工
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