订购霍尔型等离子体源()

霍尔型离子源离子能量低不损伤基片或薄膜结构；束流大有效提高离化率，增强离子束辅助效果。广泛应用于光学镀膜、溅射镀膜、阴极弧离子镀等真空镀膜过程中的离子束辅助镀膜工艺。产品设计先进，结构简单实用，易于安装维护，特别是解决了霍尔离子源的污染、离子束发射和等离子体中性等问题，成为高端镀膜机的配套单元。