厂家供应 光氧催化废气净化处理设备 专业生产

光氧催化利用高能高臭氧uv紫外线光束照射废气，裂解工业废气的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，降解转变成低分子化合物

光氧催化利用氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。臭氧对有机物具有较强的氧化作用。工业废气输入到净化设备后，净化设备运用高能uv紫外线光束和臭氧对工业废气进行协同分解氧化反应，使工业废气降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过排风管道排出室外。

光氧催化利用细菌的分子键，破坏细菌的核酸，再通过臭氧进行氧化反应，达到净化杀灭细菌的目的。采用脉冲电晕吸附技术相结合的原理对有害气体进行消除，使有机物转变为无机物。

光催化氧化技术原理：

1、光催化氧化是在外界可见光的作用下发作催化作用,光催化氧化反应是以半导体及空气为催化剂，以光为能量，将有机物降解为co2和h2o及其它无毒无害成份。本公司运用人工紫外线真空波作为动力，经我司特有技术处理后活性zui强、反应效率zui高的纳米tio2催化剂来激发催化反应,废臭气体经过处理后可到达更理想的净化效果。
2、在半导体光催化氧化反应中，经过真空紫外光照射在纳米tio2催化剂上，纳米tio2催化剂吸收光能发生电子跃进和空穴跃进，经过进一步产生电子-空穴对，与废臭气体中的水份（h2o）和氧气o2）反应生成氧化性极强的氢氧自由基（oh-）和超氧离子自由基（o2-、0-）。能够把废臭气体中的醛类、苯类、氨类、胺类、硫化物以及其它voc类有机物及无机物在光催化氧化的作用下反应还原成二氧化碳（co2）、水（h2o）以及其它无毒无害物质，经过净化之后的废臭气体分子被活化降解，臭味也同时消失，起到了废气除臭的作用，同时对管道内繁殖的细菌病毒都可以有用的去除。由于在光催化氧化反响过程中无任何添加剂，所以不会发生二次污染，运行成本方面仅仅用到电能，无需常常替换配件，对于企业来说是相当的经济适用、节能环保。
光氧催化的技术原理：

利用高能高臭氧uv紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。uv＋o2→o-+o＊(活性氧)o+o2→o3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用，对工业废气及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。工业废气利用排风设备输入到本净化设备后，净化设备运用高能uv紫外线光束及臭氧对工业废气进行协同分解氧化反应，使工业废气降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过排风管道排出室外。

利用高能 uv 光束裂解工业废气中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（ dna ），再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到净化及杀灭细菌的目的。从净化空气效率考虑，我们选择了 -c 波段紫外线和臭氧结合电晕电流较高化装置，采用脉冲电晕吸附技术相结合的原理对有害气体进行消除，其中 -c 波段紫外线主要用来去除硫化氢、氨、苯、甲苯、二甲苯、甲醛、乙酸乙酯、乙烷、丙酮、尿烷等气体，使有机物转变为无机物。

本技术具有高效除恶臭、无需添加任何物质、适应性强、连续运行稳定可靠、运行成本低、设备占地面积小，自重轻等优势，采用国际上先进技术理念，可彻底分解工业废气中有毒有害物质，并能达到完美的脱臭、净化效果，经分解后的工业废气，可完全达到无害化排放，不产生二次污染，同时达到高效消毒杀菌的作用。设备具有安全、防爆特性，已通过国家防爆电器产品质量监督检验中心的ex防爆合格认证。主要用于硫化氢、硫醇类、硫醚类、氨、胺类、吲哚类、烃类、醛类、voc类等恶臭气体的脱臭净化处理，适用于油气田、炼油厂、橡胶厂、皮革厂、油漆厂、化工厂、制药厂、印刷厂、污水处理厂、垃圾转运站等行业。