现行化工行业标准，适用于工业 /三氧化硫制备的电子级超净高纯；分为EL、VL、UL、SL、XL五个纯度等级。 注意：现行国标GB/T 41881‑2022《电子级》 为更新国标，与 HG/T4559等级定义不一一对应，可按需选用。
基础理化
外观：无色透明液体，无可见杂质
含量（H₂SO₄）：95.0%～98.0%
色度（黑曾）：≤10
还原物质（以 SO₂计）
阴离子杂质（mg/kg）氯化物 Cl⁻、硝酸盐 NO₃⁻、磷酸盐 PO₄³⁻、铵盐NH₄⁺
颗粒（液体颗粒计数器，个 /mL）≥1.0μm、≥0.5μm、≥0.3μm、≥0.2μm颗粒计数，不同等级管控粒径不一样
金属痕量杂质（ICP‑MS测试，μg/kg）Al、As、Ba、B、Cd、Ca、Cr、Co、Cu、Fe、Pb、Li、Mg、Mn、Mo、Ni、K、Na、Sr、Ti、V、Zn共 22 种金属元素
表格
| EL | 低端半导体、清洗 | 管控≥1.0μm 颗粒 |
| VL | 普通电子制程 | 管控 1.0μm、0.5μm 颗粒 |
| UL | 中高端电子 | 严控大颗粒，金属更低 |
| SL | 高阶湿电子化学品 | 管控 0.3μm 颗粒 |
| XL | 高端晶圆制程 | 管控 0.2μm 超细颗粒，金属杂质低 |
含量：酸碱滴定
色度：GB/T 605
颗粒：液体颗粒计数器（洁净环境取样测试）
阴离子：分光光度法 / 离子色谱
金属杂质：ICP‑MS 电感耦合等离子体质谱法（标准指定方法）
还原物质：氧化还原滴定
取样必须在百级 / 千级洁净环境，容器为PTFE/FEP，防止引入颗粒与金属污染；样品极易被环境污染，采样是关键。
金属杂质检出限到μg/kg（ppb）级别，普通 AAS 原子吸收达不到，必须ICP‑MS。
报告可出具 CMA/CNAS，检测依据明确写：HG/T4559‑2013《超净高纯》。
HG/T4559‑2013：行业标准，EL/VL/UL/SL/XL；侧重颗粒计数，早期电子级。
GB/T41881‑2022：国家推荐标准，E1‑E5 级，对标 SEMI，国内半导体项目现在很多优先采用该国标。
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