钽靶材 镀膜靶材 溅射镀膜 平面靶材

钽靶材

牌号；ta1、ta2
纯度：99.95％ ，99.99％

密度：16.7 g/cm³

表面：光亮

特性：富有延展性、坚硬、具抗腐蚀性

熔点：2996℃

状态：退火态、硬态
标准：gb/3629-2006

成分要求：

牌号

元素含量   (质量分数%)

c

n

o

h

fe

si

ni

ti

mo

w

nb

ta

ta1

0.01

0.005

0.015

0.0015

0.005

0.005

0.002

0.002

0.01

0.01

0.05

余量

ta2

0.02

0.025

0.03

0.005

0.03

0.02

0.005

0.005

0.03

0.04

0.1

余量

用途：钽溅射靶材是通过压力加工获得的钽片材，化学纯度高，晶粒尺寸小，再结晶组织和三个轴向的一致性好，

主要应用于光导纤维，半导体晶片和集成电路的溅射沉积镀膜，钽靶材可用于阴极溅射涂层，高真空吸气活性材料等.

是重要的薄膜技术用材料。穿甲弹：钽制穿甲弹是导弹的一种，如tow2b导弹。ta-10w等合金也可制作穿甲弹。

主要钽制品：

钽板坯、钽板、钽条、钽丝、钽片、钽箔、钽杆、钽圆、钽环、钽法兰、钽筒、钽蝶、钽螺栓、钽螺丝、钽螺母、钽垫片、钽毛细管、钽舟、平底钽舟、异形钽舟、钼坩埚、钽坩埚、钽标准件、钽异形件、钽靶材、钽平面靶、钽旋转靶、钽组件、钽配件、医用钽丝，钽棒，钽接骨架、真空炉内的钽制品、钽溅射靶材、钽钨合金、钽坯、钽杯、钽带、钽粒、钽罩、钽支架、钽锭、钽合金、钽合金制品、钽加工件、钽合金加工件。

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