10000立方uv光解除臭设备原理
是指在一定波长光照条件下,半导体材料发生光生载流子的分离,然后光生电子和空穴在与离子或分子结合生成具有氧化性或还原性的活性自由基,这种活性自由基能将有机物大分子降解为二氧化碳或其他小分子有机物以及水,在反应过程中这种半导体材料也就是光催化剂本身不发生变化。hjuv---系列tio2光解催化氧化设备是我公司根据国内外废气处理设备的先进技术并在我公司多年生产光解催化氧化设备的基础上，改进的新一代tio2光解催化氧化设备，本产品利用uv紫外线技术(波段184.9nm-253.7nm)，产生臭氧，游离活性氧离子。通过高能紫外线光破坏降解分子键及协同分解氧化反应去除有机污染物。
10000立方uv光解除臭设备外形尺寸
2500*1200*1400mm，40组灯管，40组镇流器，品牌宁波佑威，铝基二氧化钛催化板2组，初效过滤装置1组，活性炭过滤装置1组，外壳材质不锈钢304
10000立方uv光解除臭设备价格
市场指导价21500元，供货周期7天
UV光解除臭设备
