Cu-DLP欧标低磷脱氧铜
- 报价
- ¥82.00元每千克
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- 型号
- Cu-DLP铜合金
- 规格
- 铜带铜板0.02mm-10.0mm
- 报告
- 环保报告,原厂材质证明,进口报关证明
欧标:Cu-DLP,统一代号CW023A,执行 EN 13601、EN 1652
德标数字牌号:2.0076
美标 UNS:C12000
国标等效:TP1一号磷脱氧铜
同系列区分:Cu-DLP(低磷) vs Cu-DHP(高磷 CW024A/C12200/TP2)
采用微量磷脱氧的高纯纯铜,磷残留极低,兼顾三大核心优势:彻底消除氢脆、焊接钎焊性能优异、导电导热远优于高磷Cu-DHP;主打需要氢气保护钎焊、换热管路、焊接导电件、深冲壳体,性能介于含氧 E-Cu58 与无氧 TU2之间,性价比均衡。
Cu+Ag ≥99.90%;P(脱氧残留):0.005 ~ 0.013%(低磷区间,核心区分 Cu-DHP);O≤0.005%(脱氧后极低游离氧);杂质总含量≤0.05%;严控脆化杂质:Bi≤0.002%、Pb≤0.005%、Fe≤0.005%、S≤0.004%。
微量磷脱氧机理:熔炼时 P 与 O 反应生成 P₂O₅高温挥发,彻底去除游离 Cu₂O氧化亚铜,从根源杜绝氢脆;
低磷设计:磷仅作脱氧剂,残留量极低,对晶格畸变、导电导热损耗极小;
低有害杂质:无低熔点晶间脆相,超薄带折弯、冷热循环无沿晶微裂纹。
均匀等轴细晶纯铜基体,无 Cu₂O 氧化夹杂,仅微量弥散磷化物,无连续析出相,整块板材 / 管材热物性、导电均匀一致。
含氧铜 E-Cu58 内部存在 Cu₂O,高温氢气环境发生反应:Cu₂O+H₂=2Cu+H₂O,水蒸气在晶界形成高压气泡,管材/ 板材晶间开裂渗漏;Cu-DLP 经磷脱氧,游离氧极低,400℃以内氢气保护钎焊长期加热无晶间裂纹,适配真空、还原性气氛焊接工序。
(2)低磷高纯基体,高导电导热磷含量仅 0.005~0.013%,晶格畸变微弱,软态导电 90~98% IACS,导热≈350W/(m・K),远高于高磷Cu-DHP(85~90% IACS),大功率导电件、换热设备温升更低。
(3)细晶均质组织,冷热成型性能优良软态伸长率≥33%,0.05~3mm超薄带、毛细铜管可小半径折弯、深冲、旋压;微量磷适度改善熔体流动性,挤压、拉拔成材率高,无撕裂缺陷。
(4)纯净基体,全工艺焊接适配、气密稳定氩弧焊、真空钎焊、锡焊、高频焊焊缝无气孔、无晶间腐蚀;淡水、中性盐雾耐蚀优良,管路长期冷热循环气密稳定,氦检泄漏率低。
P>0.013%:变为 Cu-DHP 高磷铜,导电导热明显下跌,大功率部件发热加剧;
P<0.005%:脱氧不充分,残留氧升高,氢脆风险回升;
Bi/Pb 杂质超标:超薄件反复弯折沿晶脆断,电镀出现针孔起皮。
力学性能抗拉:220~260MPa;屈服≤140MPa;伸长率≥33%;HV40~65;
导电导热导电率 90~98% IACS;电阻率 1.75~1.91 μΩ・cm;导热 350 W/(m・K);
物理参数密度 8.94g/cm³;熔点 1083℃;线膨胀系数17.7×10⁻⁶/K;无磁性;长期使用≤280℃,短时钎焊峰值 420℃;
耐蚀特性大气、淡水、中性盐雾、燃气介质稳定;不耐硝酸、浓强氧化性酸。
区别于 E-Cu58 含氧铜,可稳定用于燃气、真空、半导体散热件氢气封焊,无需昂贵无氧铜,性价比突出。
对比 Cu-DHP 高磷脱氧铜,导电提升 5~10 个 IACS百分点,汇流排、功率端子、换热管路兼顾导电与焊接密封双重需求。
塑性优异,可生产制冷薄壁铜管、VC 均热板、微型连接器壳体、燃气输送管,高速冲压无撕裂,模具损耗低。
锡焊、氩弧焊、高频钎焊成型优良,焊缝致密无气孔,车载、暖通、半导体批量生产工艺窗口宽。
微量磷提升水介质耐蚀性,空调制冷管、医用气体管路、冷水循环管长期使用无点蚀渗漏。
E-Cu58(Cu-ETP 含氧铜):O=50~400ppm,导电 IACS;塑性好、成本低;有氢脆风险;仅常温无氢气工序导电散热件。
Cu-DLP 低磷脱氧铜:P=0.005~0.013%,O≤0.005%;导电 90~98%IACS;无氢脆、焊接优良;暖通制冷管、焊接导电件、中小型真空散热件。
Cu-DHP 高磷脱氧铜:P=0.015~0.040%;导电 85~90%IACS;脱氧彻底、切削略好;侧重承压厚壁水管、燃气管道,导电要求低。
TU2 二号无氧铜:无磷、O≤0.002%;导电 98~ IACS;低放气;超高真空、半导体大功率器件。
CU02S 日系低氧纯铜:无磷,低氧无氢脆;塑性优;微型超薄散热冲压件。
暖通制冷换热:空调、热泵薄壁制冷铜管、工业余热回收换热板材、冷水循环管路;
燃气 / 医用流体管路:低压燃气输送铜管、医用氧气 / 氮气无菌管路、液化石油气配件;
电气焊接导电件:焊接汇流铜排、功率半导体引线框架、车载焊接端子、变压器焊接绕组;
中小型真空设备散热:半导体水冷基板、小型真空腔体冷却管路、真空密封法兰;
精密冲压构件:无弹性连接器基座、LED 散热壳体、微型仪表导电壳体。
成品完全退火(软态成型核心)500~560℃保温 1~1.5h缓冷,充分释放轧制应力,获得高延伸细晶,折弯、深冲无裂纹;
成型后低温去应力冲压、弯管工件 180~220℃烘烤 1h,消除加工残余应力,冷热循环不缓慢回弹、氧化;
焊接工艺适配支持氢气、氩气、空气多气氛钎焊;无氢脆限制,量产工艺灵活;
表面防护配套室内电子件:无铬钝化防氧化;车载潮湿工况:薄镍打底再镀金 / 锡,提升盐雾耐久。
氢气钎焊后晶间开裂成因:误用 E-Cu58 含氧铜;方案:更换 Cu-DLP 低磷脱氧铜,全程保护气氛焊接。
大功率导电部件温升超标成因:选用 Cu-DHP 高磷铜,导电损耗大;方案:升级 Cu-DLP 低磷款,降低线路焦耳发热。
超薄带深冲撕裂、折弯外侧微裂纹成因:未完全退火、Pb/Bi 杂质超标;方案:执行标准成品软化退火,严控杂质上限。
管路长期淡水使用内壁点蚀渗漏成因:氧含量偏高、脱氧不充分;方案:规范磷添加量,保证 O≤0.005%。
Cu-DLP 低磷脱氧铜核心平衡逻辑:高纯铜基体+ 微量低磷脱氧
防氢脆机理:磷与游离氧反应挥发去除 Cu₂O,彻底杜绝高温氢气还原产生水汽气泡开裂;
导电机理:磷残留极低,晶格畸变小,导电导热远优于高磷 Cu-DHP;
成型焊接机理:细晶单相组织塑性优良,熔体流动性好,各类焊接工艺焊缝致密气密。选型梯度:常温无氢气高温工序、追求导电低成本选E-Cu58;需要氢气钎焊、换热管路、焊接导电件优先 Cu-DLP;厚壁承压水管、切削需求选Cu-DHP;超高真空、大功率半导体器件选 TU1/TU2 无氧铜;微型超薄无弹性冲压散热件选 CU02S。



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