【产品概述】
在半导体制造向纳米级制程不断演进的今天,晶圆制造设备对核心零部件的耐腐蚀性与洁净度提出了极其严苛的要求。我司专业提供的高纯氧化钇粉末及氧化钇靶材,专为半导体刻蚀工艺中的耐腐蚀陶瓷部件制造而设计。作为新一代半导体设备的关键材料,高纯氧化钇能够有效抵抗等离子体或强腐蚀性气体的物理与化学冲击,是保障芯片良率的“幕后功臣”。
【核心技术优势】
的抗等离子体侵蚀能力:在等离子体刻蚀器(如介电窗、腔壁、腔衬里、静电卡盘等)中,我们的氧化钇喷涂粉可形成致密涂层,大幅降低颗粒污染(Particle)的产生,延长设备维护周期。
超高纯度与低杂质控制:针对半导体氧化钇涂层的严苛标准,我们采用先进的提纯工艺,确保产品纯度达到4N/5N级别,严格控制Fe、Na、Si等金属杂质含量,避免在晶圆制程中引入污染。
定制化粉体形貌:支持纳米级与微米级定制,粉末具备低团聚、高烧结活性、流动性好等特点,完美适配注塑成型、流延成型及各类热喷涂工艺。
【主要应用场景】
半导体刻蚀设备:等离子体腔室部件、气体分布板、聚焦环、衬底支架等。
半导体薄膜沉积设备:CVD/PVD设备中的绝缘陶瓷件、加热件及等离子体屏蔽件。
高端工业陶瓷:用于制造高频高压电子绝缘材料及特种半导体载具。
【技术参数参考】
纯度(Y₂O₃):≥99.99% / 99.999%
平均粒径(D50):0.5μm - 5μm(可定制)
比表面积:5-15 m²/g
包装规格:真空铝箔袋/纸板桶,防潮防氧化处理
【应用价值】
随着半导体国产化率的持续提升,氧化钇半导体
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昆山照动贸易有限责任公司是经营进出口贸易的贸易公司,开展国内外贸易,合作生产,转口贸易等方式的经营业务,成立于2012年3月。目前是日本B&PLUS公司在中国区的一级代理商,主要经营denka代理商,denka碳黑,氧化钇,稀土氧化钇喷粉,半导体氧化钇稀土,氧化钇喷粉,高纯氧化钇,等离子氧化钇喷涂,DENKA球形氧化铝,氧化钇陶瓷粉,半导体氧化钇粉,热喷涂氧化钇粉,高纯氧化钇粉末,氧化钇喷涂粉体,等离子喷涂氧化钇陶瓷粉,超音速喷涂氧化钇...