薄膜测厚仪、嘉仪自动化、干膜膜厚仪

   膜厚仪作为新一代的高科技检测设备，如今在很多产品检测过程里都发挥了相当重要的作用，帮助企业把关了产品质量，提升了整体信誉以及产品口碑度。那么在使用这类设备的时候，我们应该注意哪些细节问题呢？

1、在操作这类设备之前，相关工作人员一定要认真仔细的阅读其使用说明书，这样才能保证在使用过程当中不会存在较大的错误操作。

2、被检测产品的要求。

3、使用这类检测仪器，薄膜膜厚仪，环境可以说是非常关键的因素，因为膜厚仪属于高科技精密检测设备，如果运行环境的湿度、温度等存在不符合规定的现象，那么在检测的过程当中以及后得到的检测数据，都会或多或少的存在偏差，所以在使用这类设备之前，首先确保环境因素是符合规定的。

4、此外，由于不同企业、厂家使用这类设备的时候，工作环境的电流以及电压都有可能存在一定的差异，所以建议大家根据实际工作环境当中的电流电压来选购自己所需要的设备，如果其电力不够稳定，可以采取一定从措施，安装一个稳定电力指标的装置，辅助膜厚仪更加稳定的进行检测。

光谱反射仪是一种功能强大切且非接触式的薄膜测量方法，当薄膜厚度和光学常数在测量系统范围内时，系统能又快又轻松的测量。在用来测量薄膜厚度时，有几种常见的对光谱反射仪的误解。比如：　　1.它只能测量薄膜厚度，膜厚仪，且需要预先知道光学常数(折射率和消光系数);　　2. 和椭偏仪相比它的精度较低;　　3.只有一到两个厚度可同时测量。　　这些误解反映了光谱反射仪这种技术没有被充分利用。其使用方法和数据分析有待进一步的深入。　　光谱反射仪和椭偏仪都是间接的测量方法，都需要建立一个模型，通过调整物理参数(厚度和光学常数)，使得模型与测量得到的反射率曲线达到拟合度，以此来反推计算薄膜厚度和光学常数。椭偏仪考虑了光的极化，采用p波和s偏振反射光之间的相位差异，然而光谱反射仪不使用相位差，非常薄的薄膜对相位差敏感度很高，但薄膜厚度增加相位差敏感度会减少。事实上，椭偏仪在下列情况下较光谱反射仪有明显优势：　　1.待测薄膜很薄<10纳米　　2. 在测量非吸收薄膜时，膜厚仪器，同步测量t、n(k=0)　　3.直接测量n，k值(主要用于未知材料的基片)　　但是光谱反射仪在下列情况下具有明显的优势：　　1.精度要求较高的厚度测量(除很薄的薄膜外)mprobe精度<0.01纳米　　2.测量较厚的薄膜(>10微米)。mprobe精度达到500微米　　3. 更高的测量速度 mprobe<1毫秒　　4.测量表面粗糙度　　这两种技术都可以测量复杂的多层薄膜，干膜膜厚仪，计算其厚度和材料的n、k值。　　通常人们都使用光谱反射仪，认为它适合简单的厚度测量：一至二层薄膜。下面是一些使用光谱反射仪证明其存在更复杂的应用能力的例子：通常，测量poly-si多晶硅和sin(氮化硅)是两个主要应用，导致了椭偏仪和光谱反射仪在半导体工业领域里有着广泛的应用。以传统的使用方法，显然不适合这些应用。因此，说明光谱反射仪的应用是非常有意义的。事实上如果运用得当，测量它们非常成功。

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