CAS:12065-11-1
分子式:GeSe2
分子量:230.56
熔点:707ºC(lit.)
二硒化锗(GeSe₂)是一种层状半导体材料,核心用途集中在光电探测、红外光学、非线性光学、光伏与热电、二维材料研究五大方向。
紫外 - 宽波段探测:禁带宽度约 2.5 eV,对紫外(200–400 nm)高敏感,可与硅集成形成GeSe₂/Si 异质结,实现紫外增强探测(360 nm 响应度 323 mA/W,优于商用硅探测器)。
红外探测与成像:透明范围覆盖可见光至中红外,用于红外传感器、夜视仪、光谱分析器件。
高速光通信:响应速度快(微秒级),适用于保密光通信、光开关等。
红外窗口 / 透镜:中红外区(3–5 μm)透明度高,用于红外光学系统、激光腔体、红外制导部件。
红外镀膜:制备增透膜、高反膜,提升红外器件效率。
非线性光学晶体:具有二阶 / 三阶非线性效应,用于光参量振荡器、频率转换器、激光调制器。
光泵浦固体激光器:作为增益介质或调 Q 材料,提升激光输出性能。
薄膜太阳能电池:层状结构适合制备高效薄膜光伏电池,光电转换效率与稳定性良好。
热电材料:低导热率、高载流子迁移率,用于温差发电、微型制冷器件(潜在应用)。
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