日本Savina MX擦拭布HITECLOTH光学镜头拭镜布SOLIV

日本kbseiren savinamx擦拭布

savina minimax是日本kbseiren株式会社（原kanebo）开发的目前gaoji的无尘擦拭布系列产品，吸水吸油性极强，不磨损原件。广泛用于光学镜头制造，办公器材保养，10级以上的无尘车间净化室，半导体生产线车间等领域。cleanroomwiper

日本kanebo公司生产的hitecloth 超细纤维无尘布是由belima.x织成，其不规则的纤维排布组成适用于各种不规则物体的细微表面处理，不会掉绒毛，超柔软布质及高度抗磨损特性可应用于精密仪器之保养

规格：24cm x 24cm

包装：100片/包
高科技领域正日益精密和复杂。对于lsi和lcd等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言，高效擦拭布是必备要素。savinamx能够轻松满足时代需求，具有出色的功能，足以应对超级无尘室中的极端无尘条件。

无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备，同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。savinamx具备此类擦拭布所需的所有属性，是性能zuihao的擦拭布之一，专为高科技时代而设计。

savina mx的横截面

savina mx的表面

savinamx在专门的细针距针织机上编制而成，其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理，就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700c㎡/g，从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g

特　色

掉毛量极少。

迅速而积极地吸收并留住水分。

残留离子和其他物质的溶解率较低。

具备高端的擦拭布性能（灰尘清除量大，同时不会污染无尘室设备）。

用　途

光磁盘、硬盘和软盘的生产过程

液晶偏转板以及其他物品的生产过程

光盘和磁盘的生产过程

录像机的生产过程

隐形眼镜的生产过程

相机装配线

印刷电路板的清洁工艺

相机镜头镀膜前的清洁工艺

药品生产线清洁工艺

电影胶片清洁工艺

半导体和基础电路的生产过程

精密涂层之前工件的清洁过程