真空镀膜材料 光学镀膜材料 二氧化硅 纯度4N

光学镀膜材料二氧化硅（SiO₂）产品介绍

产品基本信息

名称：光学级二氧化硅

化学式：SiO₂

外观：无色透明/乳白色致密烧结颗粒、压片、块状

纯度：99.99% / 99.999%

形态：1–3mm、3–5mm 颗粒

CAS：14808-60-7

光学核心性能

折射率：约 1.45–1.46 @550nm，低折射率稳定可控

透光波段：200nm～10μm，深紫外到中远红外透过率

消光系数趋近于零，无吸收、无散射，膜层高透明

膜层致密均匀、硬度高、附着力优异

内应力小、不龟裂、耐湿热、耐酸碱、抗刮耐磨

真空蒸发/电子束蒸发稳定性强，出气量少、无飞溅、成膜平整

主要用途（光学镀膜核心基础材料）

高端增透膜（AR）、减反膜、宽带增透膜

手机镜头、相机镜头、安防监控镜头、车载光学镜头、眼镜镜片

精密滤光膜、分光膜、高反膜、多层干涉膜系

红外光学窗口、激光镜片、投影光学元件、光学棱镜

光学仪器保护膜、绝缘膜、阻隔膜、抗反射防护膜

显示面板、光伏玻璃、光通信器件镀膜

工艺适配

适用：电子束蒸发（E-beam）、真空热蒸发、离子辅助镀膜（IAD）、磁控溅射

常用搭配材料：Nb₂O₅、TiO₂、ZrO₂、HfO₂、Ta₂O₅

镀膜工艺兼容性强，膜层参数重复性好，适合大批量高精度量产

产品优势

超高纯度致密烧结，蒸发过程稳定，杜绝飞溅缺陷

全波段高透过、低吸收，打造高端光学膜系核心材料

化学稳定性极强，膜层长期使用不黄变、不老化、不脱层

低应力特性，适配各类光学基材，提升膜层使用寿命

是光学低折射率膜层的标配材料