沈阳氮气保护热处理高温1200度箱式实验气氛炉

氮气保护1200℃箱式气氛热处理炉技术方案

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一、设备核心定位

专为敏感材料（如锂电正极材料、磁性合金、精密陶瓷等）设计的保护性热处理设备，通过高纯度氮气气氛控制，实现无氧化退火/烧结工艺，适用于新材料研发与小批量生产。

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二、关键系统配置

| 系统模块 | 技术说明 | |-----------------|--------------------------------------------------------------------------| | 气氛控制 | 双通道质量流量计（0-10L/min可调）±2%精度 | | 密封设计 | 三级密封结构：<br>1. 硅橡胶门封（耐温250℃）<br>2. 水冷法兰<br>3. 机械压紧装置 | | 气体净化 | 可选配氧含量分析仪（检测下限10ppm） | | 快速置换 | 炉腔气体5次置换<8分钟（从空气到O₂<100ppm） |

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三、核心性能参数【温度系统】高温度：1200℃（可长期连续工作）控温精度：±1℃（恒温段）升温速率：0.1-15℃/min（程序可控）【气氛系统】氮气纯度：≥99.999%（需外接气源）氧含量控制：<50ppm（可选配至<10ppm）压力范围：-0.05~+0.03MPa（数显压力表）【结构参数】有效容积：8L（标准型300×200×150mm）加热元件：Cr20Ni80合金电阻丝（特殊涂层）热电偶类型：K型（双路冗余）

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四、氮气保护工艺优势

1. 材料保护机制

2. 动态气氛帘设计（炉门开启时维持正压）

3. 残氧浓度实时监控（声光报警功能）

4. 典型应用场景

   1. 钴酸锂材料退火：   800℃×4h（N₂流量2L/min）→ 抑制Li挥发2. 硅钢片脱碳处理：   1150℃×2h（N₂+H₂混合气）→ 表面粗糙度<0.2μm

5. 特殊工艺扩展

6. 可切换为Ar/He等惰性气体

7. 支持真空-气氛复合处理（需选配真空机组）

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五、智能控制系统graph TB    A[7寸触摸屏] --> B{工艺选择}    B --> C[预设程序]    B --> D[自定义参数]    C --> E[自动生成气体-温度联动曲线]    D --> E    E --> F[启动前气密性自检]    F --> G[三阶段气氛控制：            1. 预冲洗            2. 升温动态调节            3. 保温恒流]

氮气保护热处理 1200℃ 箱式实验气氛炉

精准适配：氮气保护退火、淬火、防氧化烧结、还原、新材料实验

一、核心参数

额定温度：1200℃

长期工作：≤1150℃

加热元件：电阻丝 / 硅碳棒

炉膛材质：高纯氧化铝纤维炉膛，洁净不掉粉

控温系统：智能触摸屏 + PID 程序控温

控温精度：±1℃

温场均匀性：±3~5℃

工作气氛：N₂氮气（为主），可兼容氩气 Ar

炉膛结构：密封炉膛 + 气密性炉门

进气方式：后侧 / 顶部进气，顶部 / 侧部排气

安全：超温保护、断偶、漏电、过流、超压防爆

二、气氛系统（氮气保护专用）

进气配置：针阀 / 浮子流量计，精准调节氮气流量

炉膛设计：全密封结构，可微正压保护，防空气倒灌

排气结构：带冷凝、阻火、尾气排出，安全环保

气氛效果：氧含量低，工件无氧化、无脱碳、不变色

可升级：多路进气、氧探头测氧含量、微负压、弱真空

三、结构与实验功能

双层风冷壳体，外壳低温不烫

可定制：

观察孔（石英玻璃，实时观察样品）

进气孔、排气孔、测温孔

炉门压紧密封，保证气密性

支持工艺：氮气保护退火、淬火、固溶、钎焊、除胶、烧结

四、适用材料

不锈钢、铜合金、钛合金、贵金属退火

磁性材料、锂电材料、粉末冶金

易氧化金属、导电陶瓷、金属粉体热处理

防止高温氧化、变色、脱碳、烧损

五、核心优势

氮气氛围稳定，防氧化效果好

操作简单：一键升温 + 自动通氮气

密封可靠，不漏气、不浪费气体

实验重复性高，适合科研与小批量生产

安全齐全，实验室合规使用