掩膜版检测怎么做，掩膜版透光率测试

　　掩膜版（光罩）是半导体、集成电路、平板显示、印刷电路板、微纳加工中用于光刻转移图形的高精度模板，由玻璃基板、遮光层、抗蚀层构成，图形精度直接决定芯片、面板、元器件的线宽与性能。

　　检测范围有：

　　适用于半导体光刻掩膜版、TFT-LCD/AMOLED 显示掩膜版、PCB 掩膜版、微机电系统 MEMS掩膜版、光电子器件掩膜版、高精度光刻原版等。

　　检测仪器有：

　　掩膜版检测机、光学显微镜、扫描电子显微镜（SEM）、激光干涉仪、图形位置误差测量仪、线宽测量仪CD-SEM、缺陷检测设备、平整度仪、应力测试仪、紫外透过率仪、洁净度检测仪、表面轮廓仪。

　　检测周期：

　　到样后3-5个工作日，可以进行加急，根据样品及其检测项目/方法会有所变动，具体需咨询工程师。

　　检测标准有：

　　依据 SEMI 标准、GB/T 35366 半导体掩膜版、ISO 14644 洁净室、IEC半导体相关标准、显示行业面板规范。检测项目包括图形精度、线宽CD、套刻精度、位置精度、缺陷数量与类型、平整度、应力、透光率、遮光密度、表面洁净度、尺寸稳定性、耐光刻性、使用寿命、缺陷修复效果等。

　　检测流程：

　　1、和客服沟通需求，安排工程师进行对接

　　2、根据情况进行寄样，支持上门取样

　　3、对样品进行初步分析，很具客户需求，进行样品检测

　　4、进行实验检测，得出实验数据

　　5、数据综合与报告编制，汇总分析结果并编制检测报告

　　公司优势

　　【专业技术人才】

　　拥有超过700名专业人员，其中技术团队90%以上毕业于国家“985”“211”等重点高校，具有硕士、博士学位。

　　【专业仪器设备】

　　500余台（套）专业仪器设备，包括红外光谱（IR）、核磁共振（NMR）、电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP）、电感耦合等离子体发射质谱仪（ICP-MS）、液相二级质谱（LC-MS-MS）、气相色谱-质谱联用仪（GC-MS）、高效液相色谱（HPLC）、气相色谱仪（GC）、X射线荧光光谱(XRF)、ASE快速溶剂萃取仪等；

　　【资质认可】

　　获得中国合格评定国家认可委员会颁发的实验室认可证书（CNAS）、质量技术监督局颁发的检验检测机构资质认定证书（CMA）。