工业硅单质硅含量检测 二氧化硅检测
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- 更新时间
- 2026-05-28 10:00
工业硅是由石英砂与碳质还原剂在矿热炉中冶炼而成的硅单质，主要成分为硅，含少量铁、铝、钙等杂质，具有良好的半导体性能和导热性，广泛应用于冶金、化工、电子等领域，其纯度和杂质含量直接影响下游产品质量。
硅含量、铁含量、铝含量、钙含量、锰含量、铜含量、镍含量、钛含量、粒度、密度、挥发分。
按纯度分为冶金级工业硅（硅含量 97%~99%）、化学级工业硅（硅含量 99%~99.5%）、电子级工业硅（硅含量 99.9% 以上）；按用途分为铝合金用工业硅、有机硅用工业硅、半导体用工业硅。
化学成分分析：采用电感耦合等离子体发射光谱仪测定铁、铝、钙等杂质元素含量，重量法或红外吸收法测定硅含量。
物理性能检测：通过筛分法分析粒度组成，密度瓶法测定密度，烘箱法测定挥发分含量。
外观质量检测：目视检查工业硅表面是否有夹渣、气孔、裂纹等缺陷，评估外观完整性。
GB/T 2881-2014《工业硅》
YS/T 1067.1-2015《工业硅化学分析方法 第 1 部分：铁含量的测定 1,10 - 二氮杂菲分光光度法》
ASTM D4889-2019《工业硅化学分析标准试验方法》
ISO 5400:2019《工业用天然及人造冰晶石和氟化铝 采样和化学分析》
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