什么镀膜设备可以做金色耐磨涂层

设备介绍

PEPEIC系列设备主要是（集）一体化高性能弧源技术（PEPIC）、高能离子束清洗技术（IONBEAM）和磁控溅射技术（SPUTTER）三种技术融合一体，可适应多种镀膜靶材，无论金属、非金属及各类复合材料都可以利用此设备进行镀膜及成膜，膜层具有高致密性、超硬、耐磨损、耐腐蚀等特点。设备可镀制各类金属复合物涂层如：TiN、TiCN、TiAlN、CrN；金属涂层如：Cu、Au、Ag等。设备具备可编程序控制器（PLC）+人机界面(HMI)组合电气控制系统，可实现全自动化控制

。

设备优势

Ø PEPIC系列设备采用高效的电磁过滤系统，能有效过滤大颗粒及杂质，可制备兼具“功能性”与“装饰性”的优质膜层；

Ø 采用全新的弧源设计，应用Zui新的电弧技术，可大幅度提高弧源连续工作的可靠性，缩短设备维护时间;；

Ø 可用于制备各类金属、合金、金属氮化物涂层，制备的涂层具有硬度高、致密性好、表面光洁度高和耐腐蚀性能优越的特点；

Ø 自主设计的智能化工艺操作系统，提供全面、便捷的工艺配方编辑及调用能力，配备实时工艺参数监控系统可实现远程在线控制。

设备参数

参数

PE624

PE422

PE213

镀膜源类型

高能离子束清洗源、磁控溅射源、磁控多弧源

极限真空/漏率

5×10-5Pa/<10-11Pa•m3/s

抽气速率

<30分钟(真空度3x10-3Pa，空载)

真空室尺寸

Φ1350*1400

Φ1350*1045

Φ800*675

均匀性

±5%

可选配套电源

直流、脉冲直流、中频、射频、高功率脉冲等

工艺气体

Ar，C2H2，N2，O2等

靶材匹配

Cr、Ti、Ni、Cu、Ta、Zr、W等金属单质或合金靶

真空系统

机械泵+罗茨泵+分子泵

控制方式

PLC+上位机

设备功率

70KW

50KW

30KW

配套要求

循环水压力：0.3-0.4MPa，压缩空气：0.5-0.7MPa

设备应用领域

消费电子行业、智能穿戴、金属配饰工模具、切削刀具等精密零部件都可用此款设备为客户镀制需要的颜色＋功能涂层。