硅片检测,硅片第三方检测中心
- 供应商
- 北京清析技术研究院
- 认证
- 检测资质
- CMA/CNAS检测资质
- 检测周期
- 到样后7-10个工作日(可加急)
- 检测地点
- 全国
- 全国服务热线
- 15385880827
- 经理
- 孙工
- 所在地
- 北京 北京市丰台区 北京市南四环西路188号总部基地12区9号楼3层
- 更新时间
- 2026-05-07 09:48
硅片,是制作集成电路的重要材料,通过对硅片进行光刻、离子注入等手段,可以制成各种半导体器件。用硅片制成的芯片有着惊人的运算能力。清析技术研究院提供分析、检测、测试、鉴定、研发等技术服务,已获得CMA、CNAS等资质证书。
硅片检测范围
单晶硅片、太阳能硅片、多晶硅片、半导体硅片等。
硅片检测项目
质量检测、厚度检测、隐裂检测、工业问题诊断、表面有机物检测、电阻率检测、压阻系数、表面粗糙度检测、反射率检测、翘曲度检测、微量元素检测、碳氧含量检测、结晶度检测等。
硅片检测标准
1、GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染
2、GB/T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
3、GB/T 29055-2019 太阳能电池用多晶硅片
4、GB/T 37051-2018 太阳能级多晶硅锭、硅片晶体缺陷密度测定方法
5、GB/T 34479-2017 硅片字母数字标志规范
6、GB/T 32280-2015 硅片翘曲度测试 自动非接触扫描法
7、GB/T 30860-2014 太阳能电池用硅片表面粗糙度及切割线痕测试方法
8、GB/T 30859-2014 太阳能电池用硅片翘曲度和波纹度测试方法
9、GB/T 30869-2014 太阳能电池用硅片厚度及总厚度变化测试方法
10、GB/T 30701-2014 表面化学分析硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
硅片检测流程
1、沟通需求:了解待检测项目,确定检测范围;
2、报价:根据检测项目及检测需求进行报价;
3、签约:签订合同及保密协议,开始检测;
4、完成检测:检测周期会根据样品及其检测项目/方法会有所变动,具体可咨询检测顾问;
5、出具检测报告,进行后期服务;