KAYAKU Microchem 正电子束光刻胶 PMMA950 C9

ar-pc 5090.02 /5091.02 电子束曝光用导电胶，不含光敏物质。在绝缘衬底上做电子束曝光时，为了避免电荷累积，大家通常会选择涂一层导电胶，来消除电荷累积。在正常的曝光结束后，导电胶会溶于水中，非常容易去除， 不会影响正常的电子束曝光工艺。 ar-br 5400 双层lift-off 工艺底层胶 可以得到稳定的 lift-off 结构，利于金属的沉积。在制作双层工艺时，需要和正胶 ar-p 3500或 ar-p 3500t 配合使用。从 270nm 到红外区，有良好的光学透明 性，热稳定性好。 ar-pc 500 耐酸碱保护胶在酸碱中有很好的耐刻蚀性能，不含光敏物质。尤其在碱性环境（40% koh）中非常稳定。一般涂于衬底背面，防止刻蚀工艺中的化学物质损害其背面结构。503 颜色为黑色，较 504 耐刻蚀性能稍弱。 sx ar-pc5000/40 耐酸碱保护胶 在酸碱中有很好的耐刻蚀性能，不含光敏物质。在 40%的 koh 和 50%的 hf 中，具有很好的保护作用的，耐刻蚀时间可以长达数小时。另外，还可以和正胶配合 使用，通过双层工艺来制作图形。 ar-p 5910 耐 hf酸刻蚀光刻胶，正胶 对基底有很好的粘附