片状氧化铝微粉平替FUJIMI PWA15抛光粉用于砷化镓晶圆CMP处理

供应商
郑州市海旭磨料有限公司
认证
报价
60.00元每千克
品牌
海旭磨料
型号
HXTA15
产地
河南
联系电话
0371-60900389
手机号
13526538098
销售经理
陈攀
所在地
中国河南省郑州市二七区大学南路绿地滨湖国际城1号楼1409室
更新时间
2024-04-23 16:57

详细介绍

片状氧化铝微粉平替fujimipwa15抛光粉用于砷化镓晶圆cmp处理

 

片状氧化铝又称平板状氧化铝抛光粉,它的用途是晶圆的抛光研磨表面处理。平板状氧化铝其实是一种通过特殊方法进行长晶的煅烧氧化铝。其煅烧温度问1200度,制成的氧化铝呈片状堆积形态。通过破碎和水洗工艺,将片状氧化铝粉进行分层,制成氧化铝纯度和清洁度更高,颗粒集中度窄、易分散的片状氧化铝微粉。不同的煅烧工艺对片状氧化铝的质量影响很大,质量好的平板状氧化铝晶体结构平整,磨削面无凹凸,颗粒致密度高,硬度高,易分散不会团聚,因此不会对硅片和晶圆造成损伤。片状氧化铝的晶体厚度为2-3um,颗粒直径3-50um。

 

 

片状氧化铝微粉/平板状氧化铝抛光粉的特点:

 

1.    海旭磨料生产的片状氧化铝对标进口产品,可以达到进口片状氧化铝粉的研磨效果。

2.    晶型平整无棱角,研磨时磨粒于工件之间产生平面滑动效果,不易产生划痕。

3.    硬度高,磨削力强。片状氧化铝具有类似于刚玉的α-al2o3晶相,适用与大多数材料的研磨和抛光。

4.    磁性物含量低,清洁度高,粒径一致性高。

5.    熔点高,机械强度高,磨削效率高。

6.    颗粒大小可控,3-50微米均可获得。

7.    颗粒的平整性使片状氧化铝粉体易于分散,适合制成研磨剂或研磨液。

8.    耐腐蚀、化学稳定性强、抗氧化性能优越,不会于研磨液中的液体介质发生反应。

9.    比表面积大,表面活性和附着力由于电熔刚玉。

10. 片状氧化铝易于分散,粉体不易团聚在晶圆表面造成堆积,影响抛光平整度。

 


化学成分:

al2o3

≥99.0%

sio2

<0.2

fe2o3

<0.1

na2o

<1

 

物理性能:

化学成分

α-al2o3

颜色

白色

比重

≥3.9g/cm3

莫氏硬度

9.0

 

生产规格:

型号

d3(um)

d50(um)

d94(um)

hxta40

39-44.6

27.7-31.7

18-20

hxta35

35.4-39.8

23.8-27.2

15-17

hxta30

28.1-32.3

19.2-22.3

13.4-15.6

hxta25

24.4-28.2

16.1-18.7

9.6-11.2

hxta20

20.9-24.1

13.1-15.3

8.2-9.8

hxta15

14.8-17.2

9.4-11

5.8-6.8

hxta12

11.8-13.8

7.6-8.8

4.5-5.3

hxta09

8.9-10.5

5.9-6.9

3.3-3.9

hxta05

6.6-7.8

4.3-5.1

2.55-3.05

hxta03

4.8-5.6

2.8-3.4

1.5-2.1

 

用途:

1.   半导体硅晶片、石英晶体、砷化镓晶体研磨液

2.   光学玻璃、光电陶瓷研磨

3.   导热涂料填充

4.   精密油石原材料

5.   抛光砂带砂纸原料

6.   软质金属研磨抛光

7.   耐热耐磨涂层

 



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