真空磁控镀膜机

用途特点：
采用磁控溅射与多弧的物理沉积技术，可镀制氮化钛、碳化钛、氮化锆，及镍、铜、铝等膜层。可在陶瓷、不锈钢镀装饰膜、也可在量具、刃具、模具上镀制超硬膜。膜层光亮、耐磨、耐酸碱，是目前真空电镀多种功能的理想设备。

技术指标:
1、工作室尺寸：φ1000×1100（mm）
2、极限真空：5×10-4帕(清洁空载)
3、恢复真空时间：从大气抽至2×10-2帕，时间≤10分钟
4、磁控源靶功率：30kw
5、电弧源功率数量：2.5kw×8只
6、转动方式：公自转
7、总功率：80kva
8、总重量：约4.5吨
9、机械占地面积：4平方米

机组配制：
kt-500扩散泵1台、zjp-300罗茨泵1台、2x-70机械泵1台、2x-15机械泵1台。

电源配制：
1、 整机磁控控制柜1台。
2、 zxg160高频逆变弧源8台。
3、 脉冲偏压弧源控制柜1台（50kva两档转换）或计算机触摸式整机控制中心柜1台。