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高真空离子镀是常见的塑胶产品电镀技术中的目前市场新兴兴起的一种技术。高真空离子镀，又称高真空镀膜加工。如今高真空电镀的做法现在是一种相来说比较盛行的一种做法，做出来的商品金属质感强，表面亮度高.而相对别的的镀膜法来说，成本较低，对环境的污染小，可选择原料种类多，这也是近年来一些电镀加工厂比较推崇的镀膜电镀技术。

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用parylene涂敷的集成电路硅片细引线可加固5-10倍，parylene还能渗透到硅片下面，广东派瑞林涂层，提高硅片的结合强度，提高集成电路的可靠性。

parylene在电子产品领域的优点:

防盐雾，防氧化，防潮湿三防性能优异同时在酷热及低温-270摄氏度条件下均保持良好的防护特性；

极低的介电常数和超薄的厚度，塑料派瑞林涂层，高频损耗小；

真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（pvd）技术和化学气相沉积（cvd）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。

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