电子束光刻胶PMMA

类型

光刻胶型号

电子束光刻胶

hsqxr-1541-006

85nm~180nm

6nm

分辨率负胶，抗刻蚀

z520

0.05-1

10-50nm

高分辨率电子束正胶,抗刻蚀

pmma

电子束正胶

ebl 6000系列

0.1-0.5

50nm

负性电子束光刻胶

ma-n2400系列

0.1-1.5

30nm

负性电子束光刻胶

纳米压印胶

mr-nil 6000e

热固化和uv固化

0.1-1

50nm

可用于纳米图形的制造、刻蚀、多层系统等

mr-i 9000m

热固化

0.1-1

50nm

mr-uvcur21

uv固化

0.1-5

50nm

光固化胶

ormo系列

g/h/i-line

0.1-300

50nm

适用于制造光栅、微型镜片、光耦合器和连接器等