PVD纳米真空镀膜：高精加工、精密光学产品镀膜

高精镀膜设备系列采用独有的纯离子镀膜源专利技术，设备腔体结构由装载腔室+真空镀膜工艺腔室组合而成。镀膜工艺系统由纯离子镀膜[pic)+离子束洁洗(0nbeam)融合而成。配有高效的电磁扫描系统和过减系统，可以过滤掉大颗粒离子团和原子团，因此制备的纳米薄膜非常致密和光滑，与工件的结合力很强，在均匀性、硬度、摩擦系数、耐冲击、耐腐蚀性能方面具有独特优势。可以制备出光学级ta-c碳基薄膜，膜层中的正四面体结构(金刚石sp3键)可以达到75%以上，其物理化学性质和金刚石极其类似，具有极高的硬度(75gpa),极低的座擦系数(0.1),耐高温(在氮气保护环境下可以达到600c以上)等一系列优异特征。使用寿命比传统的dlc膜层延长几倍至几十倍不等,适合光学镜头模具,及精密高端产品的镀膜。

主要应用

> 精密光学 : 光学模压模具;

>高精机械加工:精密机械零部件；

> 科研单位(研究所大学实验室 )；

>温度敏感的基材等。

产品特点

> 低温镀膜、高效过滤；

> 专利技术、工艺成熟；

>膜层性能优越: 硬度高、摩擦系数低；

>高精密膜层可大批量高效率生产等。