淮安匀胶机 顶旭

技术参数

曝光光源：紫外led

光源波长：365nm;

曝光面积：4英寸、6英寸可选；

曝光方式：单面接触式定时曝光；

曝光分辨率：2um；

曝光强度：20~200mw/cm2可调；

曝光不均匀性：≤5%；

光源平行性：≤2°；

光源寿命：≥20000h；

电源输入：ac220v±10v，50hz

功率：250w

重量：25kg

外形尺寸：382（长）*371（宽）*435（高）

工作环境：温度0℃-40 ℃，相对湿度＜80 %

su8模具加工平台旨在为su8模具加工提供一个gao效、全mian的解决方案，该平台集成了桌面光刻机、匀胶机和热板等he心设备。桌面光刻机，体积小巧，采用led光源，曝光分辨率可达2um，曝光均匀性大于90%，可实现微纳结构的精细制备；匀胶机，转速稳定性为±0.5%，转速达10000转，可确保光刻胶均匀涂敷，匀胶机，提高一致性；热板，温度稳定性±1%，可为su8模具提供充分的烘烤，从而提升su8模具结构的耐久性和机械性能。相比传统加工平台，设备体积庞大，环境要求严苛，su8模具加工平台适应性强，光刻机占地面积小，普通实验室也可轻松部署。su8模具加工平台，有利于客户快速实现芯片制备，为微流控技术的推广和应用提供便捷途径。

使用方法

该设备操作简单，易于上手，具体操作如下：

一、曝光前准备工作

1、硅片处理：确保待曝光硅片经过匀胶处理，表面干净平整，没有明显的污渍或破损。

2、选择光刻板：根据项目需要，选择合适尺寸的光刻板，本设备兼容4英寸、5英寸或6英寸。

3、设备检查：仔细检查设备，确保所有部件处于正常工作状态，确保操作环境良好。

二、曝光操作步骤

1、安装硅片：将待曝光硅片平放在设备的载台上，确保位置准确。

2、放置光刻板：将光刻板平放在硅片上方，如果使用菲林掩膜，需要在其上方放置透明玻璃以保持平稳。

3、设定曝光参数：使用控制面板设置曝光时间和强度，根据具体需求进行调整。

淮安匀胶机-顶旭(图)由顶旭（苏州）微控技术有限公司提供。顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家从事“微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰”的公司。自成立以来，我们坚持以“诚信为本，稳健经营”的方针，勇于参与市场的良性竞争，使“微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰”品牌拥有良好口碑。我们坚持“服务至上，用户至上”的原则，使顶旭在生物制品中赢得了客户的信任，树立了良好的企业形象。特别说明：本信息的图片和资料仅供参考，欢迎联系我们索取准确的资料，谢谢！