离子真空镀膜机 鼎益科技,鼎益真空 真空镀膜机

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肇庆市鼎益科技有限公司
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13925536251
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13925536251
联系人
邓工
所在地
广东省肇庆市高要区金渡镇世纪大道西南侧300米
更新时间
2023-06-07 13:56

详细介绍

中频离子镀膜机
中频离子镀膜机-中频溅射镀膜设备中频溅射离子镀膜机:

设备集直流磁控溅射,中频溅射和电弧离子蒸发三种技术融合一体,一体,根据不同产品需求,可选配加热系统、偏压系统、离化系统等装置。设备配置了多对中频靶位,能在金属制品及非金属表面镀制合金膜、化合物膜、多层复合膜等,五金真空镀膜机,且利于快速沉积更厚更纯净的膜层。












设备优势:

设备所镀制的膜层具有附着力强、致密性高的优点,对提高颜色一致性及化合物成份的稳定性提供了解决方案,可有效提高产品的耐盐雾性、耐磨能力及产品表面硬度,满足了膜层制备的需求。在产品上表现为耐腐蚀性增强、膜层硬度增大弹性模量降低、涂层表面摩擦系数更低、涂层颜色光亮度提高。

制备涂层:

离子金、离子银、氮化钛膜、碳化钛膜、氮化锆膜、钛铝合金膜、氮化铬(tin) 、(ticn) 、(tic)、(tio2)、(tialn)、(crn)、 (zrn)、 (crc)等金属化合物膜层。

设备功能:

效果:复合膜(功能膜)牢固度高,硬度高。离化率高、沉积速率高、磁控溅射低温稳定、颗粒细腻、操作简单、产量高等。

设备应用:

表带、高尔夫球具、五金、餐具、手表配件、手机配件、眼镜架、灯饰、卫浴洁具等制品。

镀制颜色:

钛金系列、锆金系列、拉丝系列、黑色系列、彩色膜层系列,可实现深黑色、炉内金、玫瑰金、仿金、锆金、宝石蓝、亮银色等共十多种颜色。






真空镀膜机蒸发镀膜机
蒸发式真空镀膜设备的原理是在真空室中在真空状态下利用电阻加热法,将电阻丝上的金属丝(铝丝、铜丝、铬丝……)熔融汽化,汽化了金属分子沉积于基片上,而获得光滑高反射率的膜层,达到装饰美化物品表面的目的。








鼎益真空蒸发镀膜机:镀铝机,镀镜机,镀彩机

具有结构合理、抽速大、工作周期短、生产、操作方便,能耗低、工作稳定,且膜层均匀、成膜质量好等优点。

该设备主要广泛应用于汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、手机、反光杯、化妆品、玩具等行业。

可镀基材表面状态:电镀亮面、半透镜面、哑光面(半哑、全哑)、工艺电镀、拉丝、雨滴等;

镀制颜色有:金、银、红、蓝、绿、紫、黑、七彩等各种颜色.


鼎益真空-蒸发镀膜设备型号及技术参数

型号工作室尺寸直径x长(mm)可镀工件大尺寸直径(mm)极限压力(pa)空载抽气时间


鼎益科技

可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。

鼎益科技国际水平的镀膜应用解决方案:提供设备、材料、加工、技术、项目配套等系统服务

鼎益真空镀膜设备有:蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机 、磁控蒸发两用镀膜机 、多弧离子镀膜机 中频离子镀膜机、af镀膜机、超硬质涂层镀膜机、卷绕式镀膜机、pvd镀膜线、镀膜项目配套总成。

pvd工艺技术采用在真空条件下,通过蒸馏或溅射等方式在工件表面沉积各种金属和非金属薄膜。

鼎益科技根据产品的特性匹配的镀膜工艺方案。鼎益真空镀膜机祖设备在行业优势特点所在:、诚信、可靠。







常用的方法是引入反应气体,使之与溅出的靶极原子反应生成挥发性气体,通过真空系统从溅射室中排出。沉积薄膜时,溅射源置于靶极,受离子轰击后发生溅射。如果靶材是单质的,则在衬底上生成靶极物质的单质薄膜;若在溅射室内有意识地引入反应气体,真空镀膜机,使之与溅出的靶材原子发生化学反应而淀积于衬底,便可形成靶极材料的化合物薄膜。通常,制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接进行溅射而得。在溅射中,溅出的原子是与具有数千电子伏的高能离子交换能量后飞溅出来的,其能量较高,往往比蒸发原子高出1~2个数量级,因而用溅射法形成的薄膜与衬底的粘附性较蒸发为佳。若在溅射时衬底加适当的偏压,可以兼顾衬底的清洁处理,这对生成薄膜的台阶覆盖也有好处。

      另外,用溅射法可以制备不能用蒸发工艺制备的高熔点、低蒸气压物质膜,便于制备化合物或合金的薄膜。溅射主要有离子束溅射和等离子体溅射两种方法。离子束溅射装置中,由离子提供一定能量的定向离子束轰击靶极产生溅射。离子可以兼作衬底的清洁处理和对靶极的溅射。为避免在绝缘的固体表面产生电荷堆积,可采用荷能中性束的溅射。中性束是荷能正离子在脱离离子之前由电子中和所致。离子束溅射广泛应用于表面分析仪器中,对样品进行清洁处理或剥层处理。由于束斑大小有限,用于大面积衬底的快速薄膜淀积尚有困难。

      等离子体溅射也称辉光放电溅射。产生溅射所需的正离子来源于辉光放电中的等离子区。靶极表面必须是一个高的负电位,正离子被此电场加速后获得动能轰击靶极产生溅射,同时不可避免地发生电子对衬底的轰击。

      真空镀膜机磁控溅射工艺,也分好几种,主要有二级溅射、三级或四级溅射、磁控溅射、对靶溅射、射频溅射、偏压溅射、非对称交流射频溅射、离子束溅射以及反应溅射等,选择哪一种溅射方法,离子真空镀膜机,具体要看镀什么工件,工件是什么材质,镀什么膜层而决定














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