§扩散炉应用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制造等领域对晶片进行扩散、氧化、淀积、退火及合金等工艺的热加工设备.主要由加热炉、净化工作台、推拉舟系统、气源柜、控制系统等组成。采用高精度智能化及性能极为先进的仪器，适合连续长时间、高精度、高稳定度控温工作，性能十分可靠。
§全自动程控扩散炉
§具有可编程的升、降温功能
§可保存多条工艺曲线，每条曲线可设置多步。
★工艺曲线的自动运行控制功能。
★自动运行中可暂停/继续运行功能。
★工艺中可强制跳到下一个工艺步运行功能。
★智能升降温斜率制功能。
★pid参数自整定功能。
★系统故障的检测与报警功能。
★智能悬臂推拉舟控制功能。
★停电后断点继续运行功能。
★工艺气体的程序控制功能（电磁阀/质量流量控制器）。
★可根据用户的特殊要求增减或开发相应的功能。
主要技术指标：
★工作温度范围：300℃-1300℃；
★恒温区长度范围：300mm-800mm；
★恒温区精度范围：600℃-1300℃≤±0.5℃； 300℃-600℃≤±1℃
★开机重复性：±1℃
★升温时间：60min；
★温速率可控范围：爬升率20℃m（大）下降率5℃/min（大）