半导体行业高纯水设备

水质要求
微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。中国电子工业部电子级水质技术标准分为五级（18mΩ·cm、15mΩ·cm、10 mΩ·cm、2 mΩ·cm 、0.5 mΩ·cm），具体指标请参考电子级水质技术标准。

典型工艺流程
●预处理→一级反渗透系统→ph调节装置→中间水箱→二级反渗透系统→纯水箱→纯水泵→用水对象【电阻率≥0.5mΩ·cm】
●预处理系统→反渗透系统→纯水箱→纯水泵→体内再生混床→精密过滤器→用水对象【传统工艺，电阻率≥2mΩ·cm】
●预处理系统→反渗透系统→ro纯水箱→ro纯水泵→edi装置→edi纯水箱→edi纯水泵→用水对象【≥10-15mΩ·cm，荐新工艺】
●预处理→双级反渗透系统→ro纯水箱→纯水泵→抛光混床→用水对象【电阻率≥2-10mΩ·cm】
●预处理→双级反渗透系统→紫外线杀菌器→ro纯水箱→ro纯水泵→edi装置→edi纯水箱→edi纯水泵→用水对象【≥15-17mΩ·cm，推荐新工艺】
●预处理→双级反渗透系统→紫外线杀菌器→ro纯水箱→ro纯水泵→edi装置→edi纯水箱→edi纯水泵→抛光混床→微孔膜过滤器→用水对象【≥18 mΩ·cm，新工艺】
典型案例